重点关注机械抛光。
在众多抛光工艺方法中，机械抛光可以达到最低的粗糙度，可达Ra0.008，如果结合化学抛光，即化学机械抛光，如半导体晶圆，可达到Ra小于0.5nm。精密机械镜面抛光，可以做出优良的外观效果，又可满足面形精度，可谓内外兼修，所以研究机械抛光其意义不言而喻。
现代消费者，越来越注重产品的外观颜值，有镜面外观效果的产品更容易获得消费者的购买冲动。因为不易加工的镜面效果赋予产品高端典雅的外在气质，可以映射人性内在的美学基因，唤起消费者占有欲，产品自然就更加好卖了。
但是要想低成本加工出镜面外观效果，就目前市场的生产力，是不可能的。如，手机面板、后盖和边框，手表外框，工业陶瓷品，水晶玻璃工艺品，珠宝，化妆品，眼镜框，还有要求面形精度较高的模具，光学镜头，等等，其镜面抛光成本都很高，原因正是工序多，过程变量不可控，产品良率低。
镜面抛光为什么这么困难？就镜面抛光的机理而言，并不深奥复杂，产品表面发生塑性变形并使微观凸起部分平坦化，从而达到镜面效果。判定镜面是否合格，既有主观评价，又有粗糙度、反射率、光泽度多维度的数据量化，即便所有数据达到要求，但只要有一条很细小的划痕就可以判定产品不合格。
如何摆脱镜面抛光良率低和效率低的困扰，很多人在这条艰难的道路上做了巨大的努力和尝试，并且还在持续，包括本人在内，面对这个公共技术难题，从阶段性成功，到方向性迷失摔倒，历经数年的起起伏伏，终于在设备上取得重大突破。出于保密，暂时不能详细介绍设备，但是研发的底层逻辑是可以分享的，等设备投向市场，本人非常愿意和同行共同探讨更多的技术细节。
机械镜面抛光，从大类来划分：
第一种：游离磨料+柔性抛光轮或聚胺酯垫。这种方式注定了效率低下，工艺过程难以控制。大量的研发资源在这个坑里持续燃耗。
第二种：化学机械抛光，适用于半导体晶圆，这里对设备有一个非常苛刻的要求，即磨头压力低于50g，显然一般产品或金属材质产品不适用，且只能适合平面玻璃类加工。
第三种：固着式磨料模抛光加工，适用于光学玻璃脆性非金属材料。同样，大量的论文和专利公开了如何制作固着式磨料模的方法，但是，市面上目前却很难买到。说明一个问题，这种抛光方式，并没有成为市场主流。这种固着磨料模又分为两种，一种是以氧化铈为主料，一种是以WBN（钎锌矿型氮化硼）为主料，后者的效果优于前者，甚至两道工序就可做出镜面。实验结果两种磨料Ra都可以达到1nm。
固着式磨料模既可以做出镜面效果，又可以控制产品的面形精度，效率高，成本低，更环保，这种耗材不正是行业内梦寐以求的吗？那么，很多年前就提出来的这种概念，为什么没有普及开来，两种可能：一是，这种耗材不容易制作（事实上并非如此）；二是，没有相应的机床满足需求，毕竟是硬质耗材，如何避免抛光过程中磨头振动、刻滑、滑擦等问题，标准的CNC机床一定不能胜任。
五轴数控CNC机床，并赋予它满足机械镜面抛光机理的功能特性，这就是本人研发机械镜面抛光机床的底层逻辑。
