美國還是選擇了繼續收緊芯片禁令，不過這次被擴大出口管制的不僅僅是先進的AI芯片，還有半導體裝置，其實也就包括了我們平時所說的光刻機等裝置。
不過光刻機早在2023年的時候就被出口管制，隨著ASML的出貨授權到期，基本上38nm及以下制程的光刻機、蝕刻機等半導體裝置都已經無法出貨，受到出口管制限制的不僅有ASML，還有日本的尼康、佳能以及美國的套用材料、科磊等全球知名的半導體裝置廠商。
根據【路透社】在3月29日的報道，美國將限制光刻機裝置的零部件以及售後維修服務。對此有外媒表示：距離光刻機裝置「鎖死」的時間越來越近了？
光刻機對於芯片制造的重要性是毋庸置疑的，可以說在如今的矽基芯片體系之下，基本上沒有辦法不依賴光刻機生產出芯片，7nm及以下的先進芯片需要EUV光刻機的支持，28nm及以下制程的芯片也需要有高端DUV光刻機的支持。
其實美國限制光刻機的目的和限制先進芯片出貨的目的類似，都是為了阻止中國芯的發展，以此來保障自身在芯片領域的技術優勢。美國不僅限制了本土芯片廠商的出貨，日本、歐洲等國家的非美半導體企業也同樣受到了限制。
值得關註的一點是，此前在2023年的時候就有關於美國將要光刻機零部件、售後服務的訊息，當時國內的芯片廠商也直接表示：如果購買的光刻機等裝置無法正常使用，那麽就會要求出貨廠商回購。
面對這種情況，中企也意識到，只有掌握核心技術才能避免被卡脖子，應該要放棄對美西方企業心存幻想，加強技術自研的進步。同時也意識到「造不如買」的思想是錯誤的，於是紛紛開始投入到芯片自研、技術自研當中。
如今中國芯的出色表現是有目共睹的，可實際上我們在半導體裝置方面也早就已經開始國產化替代。在蝕刻機方面，我們一直處於世界領先水平，中微電子已經擁有制造5nm制程先進蝕刻機的技術。
就在前幾天，國內企業也傳出好訊息，完成了28nm制程離子註入機的技術突破，實作了全流程覆蓋。在芯片制造當中，最關鍵的幾種半導體裝置就是蝕刻機、光刻機、離子註入機以及鍍膜機。如今我們在不少裝置領域都完成了28nm的技術突破，關於光刻機的好訊息也接連傳出。
這其實也意味著，美國想要透過限制半導體裝置的方式來阻止中國芯的快速發展恐怕是沒有什麽可能性了。更何況，如今的芯片半導體對於稀土材料等也十分的依賴，而全球範圍之內有80%以上的稀土材料都來自於我們出貨。
這些稀土材料也為我們的半導體產業發展提供了不小的助力，在2023年的時候我們限制了部份稀土材料的出貨也讓美國十分的難受。在這種情況之下，不少外媒以及芯片半導體企業其實都不看好美芯禁令能夠取得什麽有效果的表現，甚至不少美芯企業已經開始想辦法出貨了。
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