證券之星訊息，根據企查查數據顯示西高院（688334）新獲得一項發明專利授權，專利名為「一種滅弧室變開距裝置」，專利申請號為CN202111249415.9，授權日為2024年1月30日。
專利摘要：本發明提供了一種滅弧室變開距裝置，該裝置透過卡爪和限位件，其中：卡爪包括卡套和卡緊件；所述限位件設定在卡爪上方，限位件的內側壁設定有限位曲面；所述卡緊件頂部與限位曲面接觸，所述卡緊件的底部透過彈性件與卡套內底部連線，所述卡緊件的一側透過轉軸和卡套內側壁連線。透過拉動時聯動夾緊，復位時自然釋放的裝置，對滅弧室動端簡易工裝快速夾緊、拉開距和釋放，實作滅弧室的快捷自動拉開距作業，結構簡單，且僅需要一套動力和控制，適用真空滅弧室生產和檢測中大批次、高效率變開距作業要求。
今年以來西高院新獲得專利授權4個。結合公司2023年中報財務數據，2023上半年公司在研發方面投入了1944.3萬元，同比減22.49%。
數據來源：企查查
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