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半導體掩模版賽道龍頭龍圖光罩成功上市 近3年凈利復合增長率超40%

2024-08-13股票

8月6日,深圳市龍圖光罩股份有限公司(以下簡稱「龍圖光罩」或公司)上市,股票發行價格為18.50元/股,發行市盈率為30.20倍。

招股書顯示,龍圖光罩是一家專註於半導體關鍵材料的科技創新型企業,主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售,是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商,與國內主流大型特色工藝晶圓制造廠商、芯片設計公司有穩定合作關系。值得一提的是,公司已掌握130nm及以上制程節點半導體掩模版生產制造的關鍵技術,在半導體掩模版行業步入「國產替代」行程中發揮著引領作用。

分析認為,近年來隨著新能源汽車、光伏發電、工業自動化等下遊新興產業推動,中國功率器件市場規模預計未來幾年的年平均復合增長率將達到11.58%,這將讓國內半導體掩模版需求大幅增加。

事實上,不論是「國產替代」大趨勢下潛藏的金礦,還是下遊產業需求進一步提升,龍圖光罩近幾年的業績已經呈現高速增長態勢。招股書顯示,2021年至2023年公司營業收入年均復合增長率為38.56%,其凈利潤的年均復合增長率更是超過了40%。

稀缺獨立第三方 業績年均復合增長率40%

在資本市場,是否具有獨家稀缺性往往是衡量一家公司價值高低的重要參考值。7月26日啟動申購的龍圖光罩則在該指標上頗有話語權。

招股書顯示,龍圖光罩主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售。半導體掩模版主要用於功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域,終端套用涵蓋新能源、光伏發電、汽車電子、工業控制、無線通訊、物聯網、消費電子等場景。它的作用是將承載的電路圖形透過曝光的方式轉移到矽晶圓等基體材料上,從而實作集成電路的批次化生產。

值得註意的是,半導體掩模版行業高度依賴專有技術,具有鮮明的「Know-How」特點,進入門檻較高。具體而言,掩模版是上遊芯片設計公司與下遊晶圓制造廠商的中間橋梁,這要求廠商既能快速理解並轉換上遊芯片設計要求,又要充分了解下遊晶圓制造工藝需求,制作出適配下遊光刻機的掩模版。

據了解,目前半導體掩模版生產廠商可以分為晶圓廠自建配套工廠和獨立第三方掩膜廠商兩大類,而對於28nm以上等較為成熟的制程所用的掩模版,芯片制造廠商為了降低成本,在滿足技術要求下,更傾向於向獨立第三方掩模版廠商進行采購。

龍圖光罩正是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版生產商,可以說是目前A股市場上唯一一家半導體掩模版收入占比超過9成的公司。

2021年—2023年,龍圖光罩的營業收入分別為1.13億元、1.61億元和2.18億元,年均復合增長率為38.56%。而半導體掩模版則是龍圖光罩的主要收入來源,報告期內來自半導體掩模版的收入分別為8672.51萬元、1.38億元和1.98億元,分別占主營業務收入的76.28%、85.44%和91.13%。

2021年—2023年,公司歸屬於發行人股東的凈利潤分別為4116.42萬元、6448.21萬元及8360.87萬元,凈利潤復合增長率超40%,盈利能力顯著提升。

有跡象顯示,這一高速增長態勢也有望持續。

近年來,受到新能源汽車、光伏發電、工業自動化、物聯網等下遊新興產業的推動,以功率器件為代表的特色工藝半導體發展迅速,不斷進行產品叠代,為半導體掩模版行業創造了大量的市場需求。

根據IBS的統計數據,以新能源汽車、光伏行業中的關鍵元件功率器件為例,2021年中國功率器件市場規模約為711億元,預計到2025年市場規模將增長至1102億元,年平均復合增長率11.58%。同時,國內主要特色工藝晶圓廠均在積極擴充產線,這將讓國內半導體掩模版的配套需求大幅增加。

以2024年預計業績為例,也透露出了積極增長訊號。公司預計2024年1-6月營業收入約1.25億元至1.3億元左右,與上年同期相比增長約21.17%至26.02%左右;預計2024年1-6月歸屬於母公司股東的凈利潤約4800萬元至5000萬元左右,與上年同期相比增長約19.41%至24.39%左右。

研發費用率行業領先 技術積累築高門檻

.行業前景具有藍海特質,但也只有真正掌握技術優勢的企業能夠乘風破浪。

招股書顯示,龍圖光罩在高精度半導體掩模版領域持續進行器材引進與技術攻關,針對半導體掩模版的工藝特點,掌握了多項自主研發的核心技術,包括圖形補償技術、精準對位標記技術、光刻制程管控技術、曝光精細化控制技術、缺陷修補與異物去除技術等,涵蓋CAM、光刻、檢測三大環節;同時,公司還積極開展技術布局與儲備,儲備了電子束光刻技術及PSM相移掩模版技術,形成了一定的技術成果。

目前,公司已經實作了130nm工藝節點半導體掩模版的量產,具備±20nm的CD精度和套刻精度,其技術實力和工藝能力在中國的第三方半導體掩模版廠商中居於領先地位。截至2023年12月31日,公司擁有發明專利16項,實用新型專利27項,電腦軟件著作權36項。

憑借強大的研發實力、持續的自主創新能力等,公司也獲得了工信部專精特新「小巨人」企業認定、廣東省功率半導體芯片掩模版工程技術研究中心認定、廣東省專精特新中小企業認定、國家高新技術企業認定等。

事實上,龍圖光罩之所以能在技術上得到多重認可,源於其多年來對研發的不遺余力。2021-2023年,龍圖光罩在研發上分別投入了931.80萬元、1533.31萬元和2017.59萬元,占營業收入的比例分別為8.20%、9.49%和9.24%。

同期間,公司研發費用的年均復合增長率達到了47.15%,而與同行業上市公司相比,龍圖光罩的研發費用率也在較高水平。2021-2023年,公司的研發費用率分別為8.2%、9.49%、9.24%,而清溢光電、路維光電的研發費用率則分別為6.77%、5.87%、5.3%和4.66%、4.44%、5.24%。

此外,龍圖光罩研發中心的人才隊伍從2021年末的26人也增長至2023年末的42人。其研發團隊在半導體掩模版領域擁有豐富的技術經驗和專業知識,具備高效的技術轉化能力。而為了進一步提升研發實力,公司仍在不斷吸引和培養優秀人才,積極與高校和科研院所開展合作,以實作技術創新和突破。

穩定優質客戶群助力未來發展

資質稀缺、技術領先,也為龍圖光罩帶來了業績增長的重要保障——穩定的大客戶資源。

據招股書,經過多年的發展,公司憑借其紮實的技術實力、優質的服務和可靠的產品質素,贏得了下遊客戶的廣泛認可。公司已經與眾多知名客戶建立了長期穩定的合作關系,並形成了優質的客戶結構。這些客戶不僅包括芯片制造廠商、MEMS傳感器廠商、先進封裝廠商,還包括進行基礎技術研究的知名高校及科研院所。

同時,下遊客戶對半導體掩模版廠商的要求較高,認證周期也較長。因此,一旦與下遊客戶建立了合作關系,客戶不會輕易更換供應商,形成了較強的客戶黏性。公司的產品已經透過了多個國內知名晶圓制造廠商的認證,如中芯整合、士蘭微、積塔半導體、新唐科技、比亞迪半導體、立昂微、燕東微、粵芯半導體、長飛先進、揚傑科技等。

2021年—2023年,龍圖光罩石英掩模版的產銷率分別為99.77%、99.49%、99.82%;蘇打掩模版的產銷率分別為99.97%、100.11%、100.06%,漂亮數據的背後自然也有優質穩定的客戶群的功勞。

此外,產銷率始終處於較高水平的同時,龍圖光罩的主要產品平均單價也在持續攀升,報告期內的平均單價同比增幅分別為28.10%、18.47%。同時,報告期內公司主營業務毛利率分別為59.73%、61.03%和58.87%,而同行業可比公司平均水平為31.01%、36.88%、35.53%。

根據SEMI數據、CEMIA數據,作為半導體材料的重要組成部份,掩模版占半導體材料市場規模的比例約為12%,僅次於矽片和電子特氣,2023年全球半導體掩模版市場規模為95.28億美元,2023年中國半導體掩模版的市場規模約為17.78億美元。未來隨著半導體行業容量的持續上升,半導體掩模版市場規模將不斷提升。

透過本次上市,龍圖光罩將持續加大技術創新投入,本次擬募集資金6.63億元,將直接用於電子束光刻機等一系列高端器材購置及產線建設,推動90nm、65nm及更高制程節點半導體掩模版的技術突破,補強產業發展短板,提升自主可控水平。

(本文不構成任何投資建議,資訊披露內容以公司公告為準。投資者據此操作,風險自擔。)

每日經濟新聞