近日，九峰山實驗室、華中科技大學組成聯合研究團隊，依托九峰山實驗室工藝平台，支持華中科技大學團隊突破「雙非離子型光酸協同增強響應的化學放大光刻膠」技術。
這一具有自主知識產權的光刻膠體系已在產線上完成了初步工藝驗證，並同步完成了各項技術指標的檢測最佳化，實作了從技術開發到成果轉化的全鏈條打通。
近期，相關成果以「Dual nonionic photoacids synergistically enhanced photosensitivity for chemical amplified resists」為題，在國際頂級刊物Chemical Engineering Journal上發表。主要作者為華中科技大學光電國家研究中心朱明強教授，湖北九峰山實驗室工藝中心柳俊教授和向詩力博士。
光刻膠是半導體制造不可或缺的材料，其質素和效能是影響集成電路電性、成品率及可靠性的關鍵因素。但光刻膠技術門檻高，市場上制程穩定性高、工藝寬容度大、普適性強的光刻膠產品屈指可數。當半導體制造節點進入到100 nm甚至是10 nm以下，如何產生分辨率高且截面形貌優良、線邊緣粗糙度低的光刻圖形，成為光刻制造的共性難題。
該研究透過巧妙的化學結構設計，以兩種光敏單元構建「雙非離子型光酸協同增強響應的化學放大光刻膠」，最終得到光刻影像形貌與線邊緣粗糙度優良、space圖案寬度值正態分布標準差（SD）極小（約為0.05）、效能優於大多數商用光刻膠，且光刻顯影各步驟所需時間完全符合半導體量產制造中對吞吐量和生產效率的需求。
該研究成果有望為光刻制造的共性難題提供明確的方向，同時為EUV光刻膠的著力開發做技術儲備。
