知识星球里的学员问：听说EUV的掩膜版是反射式的，但是我们常见的掩膜版都是透射式的，为什么会这样？EUV掩膜版结构麻烦介绍下。
为什么EUV的掩膜版是反射式的？
EUV光的波长为13.5纳米，这种极短的波长在通过任何材料时都会被强烈吸收，导致没有适合的透明材料能有效传输EUV光，这使得传统的透射式掩膜在EUV光刻中不可行。
EUV掩模版的结构
如上图，
EUV掩膜版采用多层膜结构，利用布拉格反射原理反射EUV光。可以实现高达70%左右的反射率，提高了光刻精度和效率。
Anti-reflective coating (ARC)（抗反射涂层）:减少掩模版表面反射，增加光吸收效率。
Absorber（吸收层）:光刻图案的实际形成层，吸收未被反射的EUV光。一般吸收层材料为Ta，TaN,TaBN等。
Ru capping（钌覆盖层）:保护多层膜结构，防止氧化和损坏。
Mo/Si multilayer mirror（钼/硅多层反射镜）:在 LTEM 基板顶部沉积了 40 到 50 层交替的硅和钼层，作为布拉格反射层，可最大程度地反射 13.5nm 波长的EUV。
Low thermal expansion material (LTEM)（低热膨胀材料）:掩模基板材料，热稳定性高，在温度剧烈变化时尺寸变化极小。
Conductive backside coating（导电背面涂层）:通常由氮化铬组成，减少静电积聚，便于静电夹持。
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