极紫外光刻机，中国能做出来吗？阿斯麦的 CEO想了想，回答的很直白，但这就是事实！
在前面的文章中，我已经说过，在一至七月份，国内的芯片出口总额为6409.1亿人民币，比去年同期增加了百分之二十点五。
随着中国的半导体产业走出国门，中国的半导体行业也跟着水涨船高，光是这一块，就有57家公司的净利润，同比上涨了200%。可以说，国内的集成电路产业，正在朝着一个新的方向发展。
这是一个非常重要的问题，也是非常重要的问题。
但回到现实，我们不得不说，现在我们向海外输出的芯片，大多都是低端的，只有极少数的高端产品。那么，这到底是怎么回事？理由很简单，极紫外光刻设备短缺。
其实在芯片生产方面，华国还是很不错的。别的不说，单说华为，就用比较老土的深紫外光刻机，都能做出7纳米的麒麟，而我们对面的台积电，还得用更高级的 EUV光刻机，由此可见，国产的工艺水准，还是相当不错的。
事实上， EUV光刻机才是制约我们国家半导体工业发展的瓶颈。如今，世界上只有荷兰阿斯麦公司可以生产这种 EUV光刻机，但阿斯麦并不是一个人做的，没有美、日、韩三个大国帮忙，单凭荷兰一家的力量，是绝对做不到这一点的。
这是一个非常重要的问题，也是非常重要的问题。
回到我们国家，说实话，以我们目前的技术，很难制造出 EUV光刻机。
就在不久前，阿斯麦 CEO在德国的一家报纸上，提到了中国是否有能力生产 EUV光刻机，阿斯麦 CEO想了想，回答道：「因为光刻机的研发很麻烦，所以我们离成功还有很长的一段路要走。
这是一个非常重要的问题，也是非常重要的问题。
距离量产还差得很远，按照阿斯麦的 CEO的说法，未来几年之内，华国是不可能生产出这种 EUV光刻机的。阿斯麦的 CEO说的很不中听，但对我来说，却是事实。EUV光刻机的生产工艺十分复杂，甚至连低端的 DUV光刻机，我们都没有完全掌握，国内的 DUV光刻机，大多都是从阿斯麦那里购买的。
如果深紫外光刻机没有完全国产化，那么我们在短时间内就可以做出光刻机，这是不太可能的事情。不得不说，阿斯麦的 CEO并不认为我们有能力制造出 EUV光刻机，但中国依然是世界上最大的国家之一。
这是一个非常重要的问题，也是非常重要的问题。
阿斯麦首席执行官称：据 IIA预测，到2025年，中国常规晶片（中端和低端）的生产能力将增长14%，到那时，每个月的月生产能力可达10100万块，即世界上1/3的份额。因此，阿斯麦首席执行官相信，中国将成为未来世界集成电路市场的一大参与者。
在这里，我认为阿斯麦 CEO对于国产半导体行业的判断，相对来说要更加的公正一些。毕竟，这可不是一件简单的事情，就算是欧美，也是靠着中低端的技术，才能走到今天这一步，而不是一步一步地走过来。而且我觉得，我们要做国产 EUV光刻机，只能在低端芯片上下功夫，慢慢积累，才能达到这个目的。你们觉得如何？
