武漢大學化學與分子科學學院 是國內外具有重要影響和良好聲譽的人才培養和科學研究基地。是國家「雙一流」重點建設學科，擁有化學、套用化學專業，均為國家一流專業；碩士學位授權點：化學、材料科學與工程、化學工程與技術、材料與化工；博士學位授權點：化學、材料科學與工程。目前已在合成化學、化學測量學、材料化學、能源化學、分子醫學等基礎研究和套用基礎研究領域形成了特色，為中國基礎科學和經濟發展做出了貢獻。
2023年12月8日，SHIWEI是維化學氣相沈積輸運系統 已交付武漢大學化學與分子科學學院並投入使用，用於二維材料、新型磁性材料、奈米能源材料及光電功能材料科研，助力武漢大學化學與分子科學學院發展。
CVDT化學氣相沈積輸運系統 是把 CVD化學氣相沈積和CVT化學氣相輸運復合聯用生長制備二維材料 ，它由 高真空封管機、高溫管式爐、瓦斯流量及控制單元組成，滿足二維材料快速高效低成本生長制備。該系統廣泛用於二維材料（0D/1D/2D），熱電材料，能源材料，光電材料，半導體材料，金屬材料，奈米材料，磁性材料，超導材料等材料生長制備，已經被全球眾多高校、科研院所和企業使用，特別是材料實驗，科學研究和先進材料研發等領域，成為眾多先進材料實驗研發的必備專用儀器。（www.shiwhy.com）
為生長制備效能優異的低維材料 ， 化學氣相沈積（CVD/Chemical Vapor Deposition）和化學氣相輸運（CVT/Chemical Vapor Transport/化學反應助昇華法） 都是目前廣泛采用的方式，其中CVD化學氣相沈積是一種制備材料的氣相生長方法，它是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質瓦斯通入放置有基材的反應室，借助空間氣相化學反應在基體表面上沈積固態薄膜的工藝技術。而CVT法是利用化學可逆反應在不同溫度下反應朝不同方向進行而生長晶體的方法，具有裝置簡單、成本低效率高、生長溫度低和晶體品質高的突出特點。
CVT與CVD生長原理圖
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裝置特點及優勢 |
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實用性 |
系統裝置原理設計先進，結構緊湊，占地面積小，可以放置於實驗桌面或通風櫥內，目前已被國內外高校、科研院所和企業廣泛使用，套用於各種材料生產合成和器件制備。 |
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方便性 |
系統采用整合模組化設計生產，組裝安裝偵錯簡單，易於操作方便使用。 |
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相容性 |
系統可獨立使用並開放相容，可無縫銜接匹配封管機、凈化手套箱，箱式爐/管式爐，鍍膜儀，二維材料轉移平台等裝置。 |
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安全性 |
滿足真空行業關於真空系統裝置研發，生產，檢驗，操作使用等相關標準。 配有安全閥、靜電防護及電器路線防爆設計，滿足電氣工業安全標準，杜絕發生安全事故。 |
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先進性 |
系統采用自動化真空封管+高精度管式爐，滿足多種材料器件的快速生長制備。「二合一」功能--CVT化學氣相輸運系統+CVD化學氣相沈積系統。 |
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裝置安裝條件 |
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供電要求 |
裝置供電總功率≤3KW，220V，50Hz，單相三線制（一火一零一地）； 插座距離裝置尺寸≤2m； |
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供氣要求（根據需要選用） |
氣瓶經減壓之後的瓦斯，氮氣/氬氣/氦氣等安全保護性瓦斯；氣壓不超過-0.6bar |
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尺寸（約） |
1200*700*1300mm |
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環境要求 |
環境溫度：5～40℃； 環境濕度：＜85%R.H； 室內無大量塵埃，無腐蝕性、五毒，無易燃易爆瓦斯； 禁止在密閉不通風空間內操作使用本系統。 其他要求按照系統操作說明。 |
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