A股光刻膠股上海新陽(300236)3月14日晚間釋出年報，去年公司歸屬凈利潤同比增長超2倍。同時，公司將調整高端光刻膠計畫，並新增投資「ArF浸沒式光刻膠研發計畫」及「償還計畫貸款」。
提高研發投入
2023年，上海新陽實作營業收入12.12億元，同比增長1.4%；凈利潤1.67億元，同比增長213.41%，扣非後凈利潤實作1.23億元，同比增長10.27%；公司基本每股收益0.54元，擬每10股派發現金紅利2元（含稅）。
報告期，上海新陽處置持有的交易性金融資產實作5028.96萬元，政府補助2209.43萬元。公司承接的「28nm銅工藝刻蝕後晶圓清洗液」「2011電子資訊工業振興和技術改造計畫建設資金」「3DNAND先進制程用高選擇比氮化矽蝕刻液和銅拋光後清洗液研發與工藝套用專項」「CMP拋光後清洗液專項」「積體電路制造用I線、KrF、ArF高端光刻膠研發及產業化」「193mmArF幹法光刻膠」的研發支出，由於研發支出發生的當期確認相應的政府補助收入，將補助收入列作非經常性損益。
由於光刻膠、清洗液、刻蝕液及PVDF環保氟碳塗料研發投入增加，去年上海新陽研發投入總額1.48億元，同比增長量程，占本期營業收入的比重為12.27%，主要集中於積體電路制造用光刻膠、先進制程濕法刻蝕液、清洗液、添加劑、化學機械研磨液等計畫。
半導體收入增長
分業務來看，報告期內上海新陽半導體行業實作營業收入7.68億元，同比增長20.06%。
由於公司半導體業務板塊產品型別不斷豐富，市場開發力度不斷加強，取得客戶訂單數量持續增加。尤其是晶圓制造用關鍵工藝化學材料銷量增加較多，其中，晶圓制造用電鍍液及添加劑系列產品市場份額快速增長，積體電路制造用清洗系列產品在客戶端認證順利，銷售增長迅速。報告期內公司電鍍液添加劑相關產品銷售同比增長50%。
在積體電路制造用清洗液產品方面，28nm幹法蝕刻後清洗液產品已規模化量產，14nm技術節點幹法蝕刻後清洗液也已量產並實作銷售，公司幹法蝕刻後清洗液產品已經實作14nm及以上技術節點全覆蓋。幹法蝕刻後清洗液產品銷售規模不斷擴大，廣泛套用於邏輯電路、模擬電路、記憶體件等晶圓制造客戶。其中，用於記憶體芯片的清洗系列產品銷售規模快速增長，套用於更高階記憶體芯片的工藝材料技術已開發完成，達到量產水平。
另外，上海新陽光刻膠計畫研發進展順利，I線、KrF光刻膠產品工藝效能指標不斷最佳化提升，滿足客戶的工藝需求。目前光刻膠已具備量產能力，在超20家客戶端提供樣品進行測試驗證。報告期內光刻膠系列產品已實作營業收入400余萬元；化學機械研磨液已有多款產品透過客戶測試，實作銷售。
相比之下，塗料板塊業務因受建築行業市場環境低迷、塗料產品售價大幅下降等不利因素影響，2023年實作營業收入4.44億元，較去年同期下降20.08%。
上海新陽也在不斷布局和完善電鍍液及添加劑、清洗液、刻蝕液、光刻膠、研磨液等化學品材料產能，其中上海松江廠區年產能1.9萬噸擴充目標已建設完成，合肥第二生產基地一期1.7萬噸已基本具備投產條件；合肥二期規劃5.3萬噸年產能各類手續正在辦理中。報告期內，公司化學品產出近1.4萬噸，其中晶圓制造用化學材料產品產量占比超70%。另外，公司與上海化學工業區管理委員會、上海化學工業區發展有限公司簽訂【投資意向協定】，啟動位於上海化學工業區的計畫建設，用於開發光刻膠及配套材料產業化，合計產能6萬噸。
調整募投計畫
從募投計畫進展來看，上海新陽「積體電路制造用高端光刻膠研發、產業化計畫」（以下簡稱「高端光刻膠計畫」）本期投資進度為19.15%，累計實作效益1.52億元。同日，公司公告變更高端光刻膠計畫部份募集資金用途，用於新增計畫「ArF浸沒式光刻膠研發計畫」及「償還計畫貸款」，同時對高端光刻膠計畫預計完成時間進行調整，並將「積體電路關鍵工藝材料計畫」結項。
具體來看，為提高募集資金的使用效率，上海新陽計劃將高端光刻膠計畫募投金額從4.26億元調減至1.81億元，其中，調減的約2.45億元用於新增的「ArF浸沒式光刻膠研發計畫」以及「償還計畫貸款」計畫，變更涉及金額占募集資金凈額比例為31.07%。
據介紹，高端光刻膠計畫主要開發積體電路制造中ArF幹法工藝使用的光刻膠和面向3DNAND（快閃記憶體，屬於非揮發性記憶體）台階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產品。截至2023年12月31日，該計畫中的「KrF厚膜光刻膠」計畫已經達到預定可使用狀態，產品已經透過客戶認證，取得訂單並產生銷售收入；「ArF幹法光刻膠」計畫的產線已經投入執行，產品仍在客戶認證階段，研發工作還在進行，因此公司決定調減計畫擬募投資金。
另一方面，本次新增的「ArF浸沒式光刻膠研發計畫」於2020年在公司立項，計畫預計投資總額為4.2億元，主要針對193nmArF浸沒式光刻膠產品的研發，目前已進入關鍵研發階段，擬使用募集資金投入1.65億元。
對於新增計畫的必要性和可行性，上海新陽介紹，統計顯示，ArF幹法和浸沒式光刻膠已成為積體電路制造領域需求量最大的光刻膠產品，2922年占據了46%的市場份額。隨著半導體制程提升，ArF浸沒式光刻膠市場有望持續高景氣擴容，而ArF濕法光刻膠制備難度高，高端光刻膠國產化替代勢在必行。目前上海新陽部份ArF浸沒式光刻膠產品客戶端測試驗證順利，數據優異；ArF浸沒式光刻膠研發曝光實驗室也已基本建成。
同日，上海新陽公告擬以500萬元增資公司董事方書農實控的浙江新盈電子材料有限公司，最終直接持有浙江新盈12.5%的股份。資料顯示，浙江新盈具備光刻膠樹脂等原材料研發、生產工藝技術及品質管控、客戶技術服務能力等專有技術。本次投資將有利於公司光刻膠產品業務的縱深發展。
