据悉，该系统已经获得了英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，预计英特尔将于2025年年底开始使用该系统进行生产。
High-NA EUV光刻机具备了非常先进的技术，能够在半导体上蚀刻出仅8纳米宽的线条，相比上一代产品，线条宽度缩小了1/1.7。这意味着芯片可以容纳更多的晶体管，从而提高了处理速度和存储容量，对于人工智能工作负载至关重要。
该公司上季度收到了创纪录的顶级EUV光刻机订单，显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技术的乐观预期。然而，由于种种因素限制，中国厂商是无法购买这些设备的。
一些网友甚至感叹，即使将这些内部结构展示给国产厂商，也难以逆向推演出技术细节。技术的发展日新月异，对于技术窃取的防范措施也日益严密。
总的来说，ASML的最新技术展示引发了业界的广泛关注，显示了科技行业在不断创新进步的同时，对于技术保护的重视。对于中国厂商而言，如何在技术封锁的情况下保持竞争力，值得深思和探讨。
你对技术保护和竞争问题有何看法？
