武汉大学化学与分子科学学院 是国内外具有重要影响和良好声誉的人才培养和科学研究基地。是国家「双一流」重点建设学科，拥有化学、应用化学专业，均为国家一流专业；硕士学位授权点：化学、材料科学与工程、化学工程与技术、材料与化工；博士学位授权点：化学、材料科学与工程。目前已在合成化学、化学测量学、材料化学、能源化学、分子医学等基础研究和应用基础研究领域形成了特色，为我国基础科学和经济发展做出了贡献。
2023年12月8日，SHIWEI是维化学气相沉积输运系统 已交付武汉大学化学与分子科学学院并投入使用，用于二维材料、新型磁性材料、纳米能源材料及光电功能材料科研，助力武汉大学化学与分子科学学院发展。
CVDT化学气相沉积输运系统 是把 CVD化学气相沉积和CVT化学气相输运复合联用生长制备二维材料 ，它由 高真空封管机、高温管式炉、气体流量及控制单元组成，满足二维材料快速高效低成本生长制备。该系统广泛用于二维材料（0D/1D/2D），热电材料，能源材料，光电材料，半导体材料，金属材料，纳米材料，磁性材料，超导材料等材料生长制备，已经被全球众多高校、科研院所和企业使用，特别是材料实验，科学研究和先进材料研发等领域，成为众多先进材料实验研发的必备专用仪器。（www.shiwhy.com）
为生长制备性能优异的低维材料 ， 化学气相沉积（CVD/Chemical Vapor Deposition）和化学气相输运（CVT/Chemical Vapor Transport/化学反应助升华法） 都是目前广泛采用的方式，其中CVD化学气相沉积是一种制备材料的气相生长方法，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的工艺技术。而CVT法是利用化学可逆反应在不同温度下反应朝不同方向进行而生长晶体的方法，具有设备简单、成本低效率高、生长温度低和晶体质量高的突出特点。
CVT与CVD生长原理图
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设备特点及优势 |
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实用性 |
系统设备原理设计先进，结构紧凑，占地面积小，可以放置于实验桌面或通风橱内，目前已被国内外高校、科研院所和企业广泛使用，应用于各种材料生产合成和器件制备。 |
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方便性 |
系统采用集成模块化设计生产，组装安装调试简单，易于操作方便使用。 |
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兼容性 |
系统可独立使用并开放兼容，可无缝衔接匹配封管机、净化手套箱，箱式炉/管式炉，镀膜仪，二维材料转移平台等设备。 |
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安全性 |
满足真空行业关于真空系统设备研发，生产，检验，操作使用等相关标准。 配有安全阀、静电防护及电器线路防爆设计，满足电气工业安全标准，杜绝发生安全事故。 |
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先进性 |
系统采用自动化真空封管+高精度管式炉，满足多种材料器件的快速生长制备。「二合一」功能--CVT化学气相输运系统+CVD化学气相沉积系统。 |
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设备安装条件 |
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供电要求 |
设备供电总功率≤3KW，220V，50Hz，单相三线制（一火一零一地）； 插座距离设备尺寸≤2m； |
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供气要求（根据需要选用） |
气瓶经减压之后的气体，氮气/氩气/氦气等安全保护性气体；气压不超过-0.6bar |
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尺寸（约） |
1200*700*1300mm |
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环境要求 |
环境温度：5～40℃； 环境湿度：＜85%R.H； 室内无大量尘埃，无腐蚀性、五毒，无易燃易爆气体； 禁止在密闭不通风空间内操作使用本系统。 其他要求按照系统操作说明。 |
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