导读
在半导体行业，大家都在讨论「1纳米芯片制造机」这个概念，它究竟能否打破现有技术的局限，成为未来芯片制造的游戏规则改变者？从2015年开始，各路发明家纷纷提出各种理论设计，但它们真的能实现1纳米的精准制造？让我们一起深入了解这个话题，看看这些理论背后隐藏的挑战和机遇。
关于1纳米芯片制造机
当前半导体芯片的制造工艺是通过电子束光刻技术制造掩模版，再将掩模版放置在硅片上进行曝光和蚀刻，从而形成千万个微小的芯片。
针对芯片制造中的掩模版，业内一直在寻找更先进的技术替代，因为掩模版决定了芯片制造的精度和性能。
从2015年开始，业内就出现了所谓「1纳米芯片制造机」的概念，无论是国内还是国外，很多发明人都试图设计一种可以实现1纳米级别精度的芯片制造机。
从外界获得的信息来看，这些发明人往往都是提出一种理论设计，例如对电子束的喷射方向进行控制，从而实现对1纳米空间的精准划分。
有的发明人将电子喷射的喷头设计为锥形，试图通过控制电子束的静电场来实现1纳米的精度，但这些理论在公开之后往往会受到业内人士的质疑。
因为即便是拥有20年专业经验的工程师也很难想象，什么样的技术可以做到比电子束光刻机还要先进1000倍。
从发明人公布的信息来看，这些理论设计和电子束光刻机并没有区别，本质上也是依赖于现有技术进行1纳米概念的放大。
所以有业内人士认为，「1纳米芯片制造机」实际上是对半导体制造工艺理解的错误，无法实现其宣称的技术突破。
但是从发明人项立刚来看，他并没有放弃自己的这项发明，而是继续通过专利申请的方式保护自己的技术。
根据公开信息，项立刚自2015年以来已经申请了58项专利，其中只有6项获得了授权，剩下的52项正在审查之中。
从数量上来看，项立刚已经属于非常活跃的专利申请者，其职业路径也越发类似于爱迪生类型的发明人。
在直播中提到「1纳米芯片制造机」的专利为例，项立刚表示自己已经提交了一份完整的专利申请，在内容说明书中描述了这种可以实现1纳米精度的芯片制造机。
但是这项专利并不是项立刚首次申请，相反该项专利在2022年1月就已经提交审查申请，直到2023年7月28日公开，但仍然没有获得授权。
结语
虽然「1纳米芯片制造机」的构想吸引眼球，但从目前的技术现状来看，真正实现起来并不简单。项立刚的坚持和努力是值得赞赏的，但我们也要保持理性，别被概念迷了眼。你们觉得这个1纳米的梦想能实现？欢迎在评论区聊聊你的看法，别忘了点赞支持哦！
