重點關註機械拋光。
在眾多拋光工藝方法中，機械拋光可以達到最低的粗糙度，可達Ra0.008，如果結合化學拋光，即化學機械拋光，如半導體晶圓，可達到Ra小於0.5nm。精密機械鏡面拋光，可以做出優良的外觀效果，又可滿足面形精度，可謂內外兼修，所以研究機械拋光其意義不言而喻。
現代消費者，越來越註重產品的外觀顏值，有鏡面外觀效果的產品更容易獲得消費者的購買沖動。因為不易加工的鏡面效果賦予產品高端典雅的外在氣質，可以對映人性內在的美學基因，喚起消費者占有欲，產品自然就更加好賣了。
但是要想低成本加工出鏡面外觀效果，就目前市場的生產力，是不可能的。如，手機面板、後蓋和邊框，手表外框，工業陶瓷品，水晶玻璃工藝品，珠寶，化妝品，眼鏡框，還有要求面形精度較高的模具，光學鏡頭，等等，其鏡面拋光成本都很高，原因正是工序多，過程變量不可控，產品良率低。
鏡面拋光為什麽這麽困難？就鏡面拋光的機理而言，並不深奧復雜，產品表面發生塑性變形並使微觀凸起部份平坦化，從而達到鏡面效果。判定鏡面是否合格，既有主觀評價，又有粗糙度、反射率、光澤度多維度的數據量化，即便所有數據達到要求，但只要有一條很細小的劃痕就可以判定產品不合格。
如何擺脫鏡面拋光良率低和效率低的困擾，很多人在這條艱難的道路上做了巨大的努力和嘗試，並且還在持續，包括本人在內，面對這個公共技術難題，從階段性成功，到方向性迷失摔倒，歷經數年的起起伏伏，終於在器材上取得重大突破。出於保密，暫時不能詳細介紹器材，但是研發的底層邏輯是可以分享的，等器材投向市場，本人非常願意和同行共同探討更多的技術細節。
機械鏡面拋光，從大類來劃分：
第一種：遊離磨料+柔性拋光輪或聚胺酯墊。這種方式註定了效率低下，工藝過程難以控制。大量的研發資源在這個坑裏持續燃耗。
第二種：化學機械拋光，適用於半導體晶圓，這裏對器材有一個非常苛刻的要求，即磨頭壓力低於50g，顯然一般產品或金屬材質產品不適用，且只能適合平面玻璃類加工。
第三種：固著式磨料模拋光加工，適用於光學玻璃脆性非金屬材料。同樣，大量的論文和專利公開了如何制作固著式磨料模的方法，但是，市面上目前卻很難買到。說明一個問題，這種拋光方式，並沒有成為市場主流。這種固著磨料模又分為兩種，一種是以氧化鈰為主料，一種是以WBN（釬鋅礦型氮化硼）為主料，後者的效果優於前者，甚至兩道工序就可做出鏡面。實驗結果兩種磨料Ra都可以達到1nm。
固著式磨料模既可以做出鏡面效果，又可以控制產品的面形精度，效率高，成本低，更環保，這種耗材不正是行業內夢寐以求的嗎？那麽，很多年前就提出來的這種概念，為什麽沒有普及開來，兩種可能：一是，這種耗材不容易制作（事實上並非如此）；二是，沒有相應的機床滿足需求，畢竟是硬質耗材，如何避免拋光過程中磨頭振動、刻滑、滑擦等問題，標準的CNC機床一定不能勝任。
五軸數控CNC機床，並賦予它滿足機械鏡面拋光機理的功能特性，這就是本人研發機械鏡面拋光機床的底層邏輯。
