最貴的光刻機來了，3.5億歐元
日前，全球光刻機大廠ASML首次在其荷蘭總部向媒體展示了最新一代的High NA EUV光刻機，據稱單台價格3.5億歐元。而三大芯片制造巨頭台積電、三星、英特爾都在搶先訂購這種先進的光刻器材，以搶得2nm以下先進制程大規模量產的通行證。
此前，英特爾已經花費巨資，率先獲得全球首台High NA EUV光刻機。而台積電和三星訂購High NA EUV預計最快2026年陸續到位。可以預見，2026年，將是2納米芯片制程大突破的時代。
那麽，這台單台最貴的光刻機，到底有多大呢？
ASML發言人Monique Mols介紹，一套High NA EUV光刻系統的大小等同於一台雙層巴士，重量更高達150噸，相當於兩架空中客車A320客機，全套系統需要250個貨箱來裝運，裝機時間預計需要250名工程人員、歷時6個月才能安裝完成。
就是這麽一個龐然大物，成了擺在我們面前難以逾越的大山。有錢，買不到，而先進制程芯片，尤其是7納米以下先進制程芯片，更是離不開這種被稱為極紫外光的EUV光刻機。
看來只能自己造，但一台光刻機的復雜程度又是我們當前難以克服障礙。此前，甚至ASML總裁曾說，就是把圖紙給你們，你們也無法造出合格的光刻機，雖然此話明顯誇大，他們也不可能把圖紙給我們，但此也從另一個側面看出，光刻機的復雜程度。
目前，我們的光刻機水平與國際先進水平還有很大的差距。數據顯示，2022年，中國晶圓廠商半導體器材國產化率提升至35%，但僅能滿足晶圓廠商大部份成熟制程（28nm及以上的邏輯芯片等）以及少部份先進制程的需求。更高精度的芯片，就需要用到更高級的光刻機系統，目前還無法突破這樣的瓶頸。攻克光刻機難關，讓極紫外光EUV光刻機不再成為我們制造高精度芯片的壁壘，是當前我們頭等大事。
目前，上海微電子是中國唯一可量產光刻機的企業，其90nm DUV光刻機在2016年已經透過驗收，但45nm、28nm光刻機仍在研發過程中尚未量產，亟待突破。
只是，我們攻克EUV光刻機這個難關，還需要多少年？
對此，您有什麽看法，歡迎評論。
點贊，關註，轉發，獲取更多新鮮科技事。
