國產光刻機技術又有大動作了，9月9號，工業和資訊化部發了個重要的檔， 說我們的國產的氟化氬和氟化氪光刻機，技術水平已經達到110納米和65納米了 ，這可是個裏程碑式的進展啊。
這兩套器材，最厲害的是那個「套刻精度」， 能做到8納米以內 ！這可以說我們的光刻機造芯片那是相當不錯了，對不對。
在這之前，我們說到 華為7納米和等效5納米的麒麟芯片芯片系列 ，總是再討論一個問題，這麽尖端的工業制程技術，是哪一個研究所幫忙搞出來的，比如長春光機，中科院，還有華為自己的研發中心。但是，麒麟7納米芯片是怎麽來的，官方還是只字不提，但是從這個大趨勢上來看， 我們中國在光刻機、芯片生產研發方面，要比我們在公開資訊中了解到的要快得多得多，也許快得讓人無法想象。
就像我們國家的殲-20隱形戰鬥機以及國產航母，官方總是強調一些無關痛癢的創新點，對核心技術只字不提。為什麽這麽做呢？ 就是為了保護技術安全，應對國際競爭。就算是有了很大突破了，也得小心翼翼，要隨時隱藏自己的實力。
這一個檔一出，就意味著國家自主研發的光刻機取得了重大進展， 有了自己的知識產權，再也不用受制於人啦！ 不過啊，這檔裏倒是沒說這光刻機是哪家生產的，留點懸念吧。如果有猜測或者知道的，可以評論區互動一下。
雖然說，什麽地方生產的具體的情況還沒公開，不過我們根據已經知道的資訊，可以得出一些重點的結論。
一方面，說明國家在深紫外光刻機技術上，應該有了大進步，特別是中等規格往上的， 也就是說能做到7納米及以上制程技術，已經能自己生產了。 這可是一個大好事啊，說明我們在中高端半導體器材上有了真家夥，讓我們的半導體產業鏈更安全，更有自主性了。
另外一方面，這兩款光刻機的成功突破，也可以看作是對荷蘭和美國最近對阿斯麥公司搞的新出口限制的一個回應。他們本來是想限制我們獲取14納米及以下芯片的器材的，但是我們現在突破了7納米光刻技術，這就說明咱們有決心也有實力應對這種技術封鎖，現在國外對這些技術和器材封鎖很嚴啊，有錢也不一定能買得到。所以，怎麽辦？ 自己做唄，這也是保證供應鏈安全的重要途徑。
現目前，在人工智能、芯片制造這些領域，還有整個半導體供應鏈裏，就算有錢，那些受限制的關鍵技術和器材也不容易搞到手。這就更說明了在全球科技競爭裏， 掌握核心技術有多重要了。
這一次，工信部最近發了個重要的科技突破檔，裏面提到了兩種關鍵的氣體， 一個叫氟化氪（KrF），一個叫氟化氬（ArF）。這兩種氣體，主要是用在深紫外（DUV）光刻機裏的激光器上的。這兩種氣體在光刻的時候特別重要 ，它們能產生深紫外光，然後就能在芯片上刻出特別精細的電路圖。
雖然這些技術細節聽起來挺復雜的，但我們了解了它們的核心作用，就能更好地理解現在的技術有多厲害了。 光刻機啊，不僅是芯片生產的必備神器，它裏面用的那些稀有氣體也是超級重要的。 以前啊，日本在這方面可是領先的，他們還和南韓因為稀有氣體的事情鬧過不愉快的，那時候對南韓的半導體產業，特別是三星這樣的大公司，影響可不小。
現在工信部檔裏特意提到了 氟化氪和氟化氬 ，這就說明我們中國在DUV光刻機方面也有了不小的進步。這不僅說明咱們在現有的DUV技術上能自己搞定了，還可能意味著我們在研發更先進的極紫外（EUV）光刻機或者其他更尖端的技術呢。
實驗一代，釋出一代、裝備一代、研發下一代，這一般都是我們中國對於高科技技術器材的研發模式，這能讓我們的高技術一直保持領先，競爭力可以變得很強。
就像殲-20戰鬥機，釋出的時候，下一代戰鬥機的研發工作已經悄然展開。工信部公布的檔資訊，不僅說明中國在DUV光刻機領域能自己生產了，還預示著我們的科研團隊正在研發更先進的下一代技術呢， 這樣，給我們中國的半導體產業的長遠發展可是打下了堅實的基礎。
那麽， 工信部公布的這兩部光刻機，到底是怎麽樣的一個水平呢 ？這個問題呢，下期影片接著分享， 關註我為科技點贊。
