金融界2024年1月30日訊息，據國家知識產權局公告，三星電子株式會社申請一項名為「等離子體處理器材「，公開號CN117476497A，申請日期為2023年7月。
專利摘要顯示，公開了一種等離子體處理器材。所述等離子體處理器材包括：裝載釘選腔室，能夠在大氣壓力狀態與真空壓力狀態之間切換；以及基底處理器材，被配置為：將基底傳送到裝載釘選腔室和從裝載釘選腔室傳送基底，並且在真空環境下在等離子體腔室中對基底的表面執行等離子體處理。基底處理器材包括：基底載台，設定在等離子體腔室內並且被配置為支撐基底；等離子氣體供應器，被配置為將等離子氣體供應到等離子體腔室中；蒸汽供應器，被配置為將水蒸氣供應到等離子體腔室中；以及等離子體生成器，被配置為在等離子體腔室中生成等離子體。
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