導讀
在半導體行業，大家都在討論「1納米芯片制造機」這個概念，它究竟能否打破現有技術的局限，成為未來芯片制造的遊戲規則改變者？從2015年開始，各路發明家紛紛提出各種理論設計，但它們真的能實作1納米的精準制造？讓我們一起深入了解這個話題，看看這些理論背後隱藏的挑戰和機遇。
關於1納米芯片制造機
當前半導體芯片的制造工藝是透過電子束光刻技術制造掩模版，再將掩模版放置在矽片上進行曝光和蝕刻，從而形成千萬個微小的芯片。
針對芯片制造中的掩模版，業內一直在尋找更先進的技術替代，因為掩模版決定了芯片制造的精度和效能。
從2015年開始，業內就出現了所謂「1納米芯片制造機」的概念，無論是國內還是國外，很多發明人都試圖設計一種可以實作1納米級別精度的芯片制造機。
從外界獲得的資訊來看，這些發明人往往都是提出一種理論設計，例如對電子束的噴射方向進行控制，從而實作對1納米空間的精準劃分。
有的發明人將電子噴射的噴頭設計為錐形，試圖透過控制電子束的靜電場來實作1納米的精度，但這些理論在公開之後往往會受到業內人士的質疑。
因為即便是擁有20年專業經驗的工程師也很難想象，什麽樣的技術可以做到比電子束光刻機還要先進1000倍。
從發明人公布的資訊來看，這些理論設計和電子束光刻機並沒有區別，本質上也是依賴於現有技術進行1納米概念的放大。
所以有業內人士認為，「1納米芯片制造機」實際上是對半導體制造工藝理解的錯誤，無法實作其宣稱的技術突破。
但是從發明人項立剛來看，他並沒有放棄自己的這項發明，而是繼續透過專利申請的方式保護自己的技術。
根據公開資訊，項立剛自2015年以來已經申請了58項專利，其中只有6項獲得了授權，剩下的52項正在審查之中。
從數量上來看，項立剛已經屬於非常活躍的專利申請者，其職業路徑也越發類似於愛迪生類別的發明人。
在直播中提到「1納米芯片制造機」的專利為例，項立剛表示自己已經送出了一份完整的專利申請，在內容說明書中描述了這種可以實作1納米精度的芯片制造機。
但是這項專利並不是項立剛首次申請，相反該項專利在2022年1月就已經送出審查申請，直到2023年7月28日公開，但仍然沒有獲得授權。
結語
雖然「1納米芯片制造機」的構想吸引眼球，但從目前的技術現狀來看，真正實作起來並不簡單。項立剛的堅持和努力是值得贊賞的，但我們也要保持理性，別被概念迷了眼。你們覺得這個1納米的夢想能實作？歡迎在評論區聊聊你的看法，別忘了點贊支持哦！
