美国还是选择了继续收紧芯片禁令，不过这次被扩大出口管制的不仅仅是先进的AI芯片，还有半导体设备，其实也就包括了我们平时所说的光刻机等设备。
不过光刻机早在2023年的时候就被出口管制，随着ASML的出货许可到期，基本上38nm及以下制程的光刻机、蚀刻机等半导体设备都已经无法出货，受到出口管制限制的不仅有ASML，还有日本的尼康、佳能以及美国的应用材料、科磊等全球知名的半导体设备厂商。
根据【路透社】在3月29日的报道，美国将限制光刻机设备的零部件以及售后维修服务。对此有外媒表示：距离光刻机设备「锁死」的时间越来越近了？
光刻机对于芯片制造的重要性是毋庸置疑的，可以说在如今的硅基芯片体系之下，基本上没有办法不依赖光刻机生产出芯片，7nm及以下的先进芯片需要EUV光刻机的支持，28nm及以下制程的芯片也需要有高端DUV光刻机的支持。
其实美国限制光刻机的目的和限制先进芯片出货的目的类似，都是为了阻止中国芯的发展，以此来保障自身在芯片领域的技术优势。美国不仅限制了本土芯片厂商的出货，日本、欧洲等国家的非美半导体企业也同样受到了限制。
值得关注的一点是，此前在2023年的时候就有关于美国将要光刻机零部件、售后服务的消息，当时国内的芯片厂商也直接表示：如果购买的光刻机等设备无法正常使用，那么就会要求出货厂商回购。
面对这种情况，中企也意识到，只有掌握核心技术才能避免被卡脖子，应该要放弃对美西方企业心存幻想，加强技术自研的进步。同时也意识到「造不如买」的思想是错误的，于是纷纷开始投入到芯片自研、技术自研当中。
如今中国芯的出色表现是有目共睹的，可实际上我们在半导体设备方面也早就已经开始国产化替代。在蚀刻机方面，我们一直处于世界领先水平，中微电子已经拥有制造5nm制程先进蚀刻机的技术。
就在前几天，国内企业也传出好消息，完成了28nm制程离子注入机的技术突破，实现了全流程覆盖。在芯片制造当中，最关键的几种半导体设备就是蚀刻机、光刻机、离子注入机以及镀膜机。如今我们在不少设备领域都完成了28nm的技术突破，关于光刻机的好消息也接连传出。
这其实也意味着，美国想要通过限制半导体设备的方式来阻止中国芯的快速发展恐怕是没有什么可能性了。更何况，如今的芯片半导体对于稀土材料等也十分的依赖，而全球范围之内有80%以上的稀土材料都来自于我们出货。
这些稀土材料也为我们的半导体产业发展提供了不小的助力，在2023年的时候我们限制了部分稀土材料的出货也让美国十分的难受。在这种情况之下，不少外媒以及芯片半导体企业其实都不看好美芯禁令能够取得什么有效果的表现，甚至不少美芯企业已经开始想办法出货了。
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