国内最先进的芯片制造技术达3nm，获得国际厂商认可。
因为种种原因，中国很难购买到最好的光刻机，这对中国的芯片生产造成了很大的阻碍，而中国的芯片装备，也不是什么都不是，在一些芯片上，已经走在了国际前列。
前段时间中国半导体装备产业传来一个好的好消息，中国已经在3 nm芯片器件上有了重大的进展，使中国的半导体制造技术走在了世界前列，并与世界接轨，那就是刻蚀机。
中国在刻蚀技术上和世界是一样的，早在几年前，中国就已经开始生产5 nm了，而上海中微的5 nm刻蚀机，更是被台积电选中，从这一点就可以看出，中国在刻蚀技术上，已经有了领先的技术。
刻蚀机同样是一道非常关键的工序，它的作用只在光刻机之下，当光刻机在晶片上印刷好线路后，便会用刻蚀机刻蚀出线路，随后才能完成后续工序，最后才能制作出像芯片这样的产品，从这一点就可以看出刻蚀机有多么重要了。
中国之所以能走上世界前列，是因为中国很早就做好了准备，张汝京在中国成立中芯，那时候很多国外的精英都回到了中国，而中微集团的创办人尹志骁，则是在2000年后回到国内创办了中微科技。
得益于尹志骁在美国英特尔等公司工作的经验，以及他从国外回来的一群芯片专家，中微科技凭借着自己的实力，在过去的二十多年里，从无到有地制造出了世界上最好的蚀刻设备。
而中国的巨大市场和新兴的半导体行业，也给了中微半导体成长的机会，目前中国最好的制程技术也不过是7 nm制程，所以中微科技的蚀刻技术依然占据着中国的市场份额，同时也是世界上最大的晶片供应商之一，中微公司也因此和中国的半导体行业一起，成长为世界上最大的芯片供应商。
中国在刻蚀技术上的进步，足以说明中国完全可以从无到有地建立起一条完整的半导体生产线，而且中国在上世纪90年代就已经拥有了光刻机的技术，但因为国内的需求，中国并没有把握住这个机会。
这些年来，美国一直在打压中国的高端芯片，这对中国的半导体工业造成了很大的阻碍，但现在中国已经拥有了世界上最好的技术，这无疑会激励中国的半导体工业更加团结，相信用不了多久，就会有一天，国产的 EUV光刻机会被研制出来。
中国已经具备了足够的光刻能力，在一年前就已经批量生产了浸入式光刻机，也正因为如此， ASML公司终于得到了向中国提供2000 I级浸入式光刻机的授权，如果继续这样做的话，未来我国的半导体行业将会拥有完整的生产体系。
华裔在中国扮演着举足轻重的角色， NVIDIA, AMD，博通等世界著名的半导体公司均出自华裔之手，可见华裔在半导体科技上的才华，而尹志骁等华裔科学家在中国所获得的杰出成绩，也会激发更多华裔回国投资，中国的半导体产业也会因此而蓬勃发展，甚至有可能在未来，中国不再是一个独立的国家，而是一个引领世界半导体产业发展的新潮流的国家。
