高纯金属——杂质常以百万分之几计算的金属

纯度很高、 所含杂质常以 百万分之几 计算的金属被称为高纯金属，由于它们的性能与一般工业纯金属显著不同，因而获得了特殊用途。例如制备半导体材料用的锗、铟、镓等金属要求达到 99.999%以上 的纯度，高纯金属还大量用于科研领域。

高纯金属(iHhgPuriytMetals)是现代多种高新技术的综合产物。随着 半导体技术 、 宇航 、 无线电科技 等的发展，对金属纯度要求越来越高，也大大促进了高纯金属生产的发展。因为在金属未能达到一定纯度的情况下，金属特性往往会被杂质所掩盖，所以痕量杂质甚至超痕量杂质的存在都会影响金属的性能。

例如过去钨曾被用作灯泡的灯丝，由于脆性而使处理上有困难，但在适当提纯之后，这种缺点即可以克服(钨丝也有掺杂及加工问题)。当 金属纯度提高 以后，也能进一步明确杂质对金属性能的影响。因此制备高纯金属既能为金属性能的科学研究创造有利的条件，也能更好地服务于工业生产。

金属的纯度是相对于杂质而言的，广义上杂质包括 化学杂质(元素) 和 物理杂质(晶体缺陷) 。物理杂质主要是指位错及空位等，而化学杂质是指基体以外的原子以代位或填隙等形式掺入。但只有当金属纯度达到很高的标准时(如纯度9N以上的金属)，物理杂质的概念才是有意义的，所以生产上一般以化学杂质的含量作为评价金属纯度的标准，即以主金属减去杂质总含量的百分数表示，常用N(nine的第一个字母)代表，如 99.9999%写为6N ， 99.99999%写为7N 。

高纯金属材料的纯度一般使用 差减法 计算。差减法计算的杂质元素主要是 金属杂质元素 ，并不包括C、O、N、H等间隙元素。但事实上，间隙元素的含量也是高纯金属材料分析检测的重要指标，一般需要单独列出。所以通常几个「9」 (N) 的高纯金属，并不能真正地表达纯度，只有提供杂质元素和间隙元素的种类及其含量才能明确表达高纯金属的纯度水平。在高纯属生产过程中需要控制的主要杂质包括：碱金属、碱土金属、过渡族金属、放射性金属（U、Th）等。