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新材料投资:盘点44家国内光刻胶及上游原材料企业,还能投嘛?

2024-03-30股票

正文

上市公司

(1)半导体光刻胶: 上海新阳、彤程新材、晶瑞电材、南大光电、鼎龙股份、万华化学

(2)显示面板及PCB光刻胶: 容大感光、飞凯新材、江苏艾森半导体、雅克科技

(3)光刻胶原材料: 万润股份、久日新材、强力新材、瑞联新材、同益股份、扬帆新材、百川股份、怡达股份、江化微

非上市公司

(1)半导体光刻胶: 徐州博康 (估值70亿) 、厦门恒坤新材料 (IPO辅导中) 、珠海基石、阜阳欣奕华 、上海艾深斯、苏州润邦半导体、潍坊星泰克、国科天骥、广州微纳光刻材料

(2)显示面板及PCB光刻胶: 江苏博砚电子、北京鼎材科技 、理硕科技、迪道微电子、深圳道尔顿、 湖南初源新材料 (IPO辅导中) 珦盛新材料

(3)光刻胶原材料: 威迈芯材、微芯新材、河北凯诺中星 、青岛靖帆新材料、陕西致知博约光电、江苏至昕新材料、芯越微电子材料(嘉兴)、万思得新材料科技(中山)

怎么投?

在光刻胶领域,技术、设备和客户壁垒决定了,新进入者较难与现有企业竞争,具备以下能力的厂商更容易在一级市场跑出:

① 穿透技术壁垒,如收并购国外公司产线、专利、配方及设备的企业;且掌握多种产品矩阵,能提供一揽子光刻胶产品的企业更受下游客户青睐;

② 掌握稳定可控的供应链,尤其是对关键原材料——树脂材料实现自主可控的公司,可实现反向出口,扩大营收空间;

③ 已与下游重点客户完成初步验证或合作研发的公司。

一、上市公司

1、上海新阳

涉及光刻胶产品: 包括 i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法、浸没式光刻胶 以及稀释剂、底部抗反射膜(BARC)等配套材料,主要用于逻辑、模拟和存储芯片生产制造。

产业化进展: 光刻胶已具备量产能力,在超20家客户端提供样品进行测试验证 。ArF光刻胶的研发进展比较顺利,浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆制造企业开展测试验证工作,部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口,技术指标与对标产品比较接近。23年 KrF光刻胶部分产品形成订单,实现营业收入400余万元 。

研发项目: 集成电路制造用I线、KrF、ArF高端光刻胶研发及产业化;193mm ArF干法光刻胶

参与投资: 江苏博砚电子 科技有限公司(2019年,投资5600万); 上海芯刻微材料 技术有限责任公司(100%控股子公司,193nm(ArF)干法光刻胶)

新阳观点: (1)光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,在大规模集成电路的制造过程中,光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺,占芯片制造时间的40%-50%,光刻胶是光刻工艺得以实现选择性刻蚀的关键材料。

(2)2022年全球半导体光刻胶市场规模达27.1亿美元,预计 2023年全球半导体光刻胶市场规模达25.5亿美元,较上年同期下降 5.9%,2015-2022 年复合增长率(CAGR)为 10.7%;2021年中国大陆半导体光刻胶市场规模达4.93 亿美元,较上年同期增长 43.69%,远超全球增速。

(3)随着国内晶圆代工产能的不断提升, 预计2025年中国半导体光刻胶市场规模有望达到100亿元 。随着制程缩减和存储容量提升,光刻次数增加,单位面积光刻胶的金额也会越来越高。

(4) KrF光刻胶整体国产化率不足5%,ArF光刻胶整体国产化率不足1%。

财务情况: 23年营收12.1亿,净利润1.86亿。

2、彤程新材

国内领先的半导体光刻胶生产商、 国内深紫外KrF光刻胶唯一量产供应商 以及国内芯片生产大厂光刻胶原料本土供应商之一,子公司 北京科华在IC光刻胶方面是国内第一 ;公司拥有8000吨平板用光刻胶生产能力,是国内首家TFT-LCD Array光刻胶生产商, 国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商 。

涉及光刻胶产品: 半导体光刻胶(KrF(248nm)、G/I线(含宽谱))、显示面板光刻胶、液晶面板TFT-LCD array正胶酚醛树脂、LED光刻胶酚醛树脂量产、多个G/I线酚醛树脂、部分KrF光刻胶树脂。

(1)半导体光刻胶

G线光刻胶产品在国内占据较大市场份额,I线光刻胶产品已接近国际先进水平 ,公司半导体光刻胶产品种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求;KrF产品在Poly、AA、Metal、TM/TV、Thick、 Implant、ContactHole等工艺市占率持续攀升。I线光刻胶和KrF光刻胶是国内8-12寸集成电路产线主要的本土供应商 。

(2)显示面板光刻胶

IC用正型光阻

大尺寸TFT-LCD用正型光阻

具有优异的耐热性能的光刻胶,其具有热稳定性强、工艺窗口大等优点,且在Hard Bake条件下,Half-tone具有优异的均一性和Profile角度,适用于采用Hard Bake工艺的Array制程的所有层。

4-MASK系列光阻的特点在于具有范围较大的half-tone工艺窗口,其具有half-tone3σ特性好,Hard Bake Skip条件下耐湿刻性能好的优点,适用于H/B Skip条件下采用4-MASK工艺的Array制程中的所有层。

小尺寸TFT-LCD用正型光阻

普通光阻,通用于5~10代线, 兼容spin和slit工艺,其具有感光速度快、残膜率高、耐湿刻性能好、工艺窗口大等优点,适用于TFT-LCD中Array制程的所有层。

技术特征:High Sensitivity;Good Dark Erosion;High process margin(S/B, Exp., Dev., etc.);Good adhesion

应用领域:应用在手机,笔记本,车载,平板电脑等产品,适用于TN,IPS,ADS等显示技术

AMOLED用正型光阻

分辨率可达到1.5μm,其具有感光速度快、分辨率高、Focus宽容度大等优点,适用于LTPS-LCD和OLED的所有层。

特征:High Sensitivity;High Resolution;High Focus Margin

应用领域:应用在柔性&硬性AMOLED手机等产品,适用于IPS,HADS等显示技术

产业化情况: 2022年公司 半导体光刻胶业务实现营业收入17,652万元,同比增长53.48% ;公司半导体用 G/I 线光刻胶产品较上年同期增长45.45%;KrF 光刻胶产品较上年同期增长321.85%。2023年 上半年半导体光刻胶实现销售收入8258万元 ,与上年同期基本持平,但得益于胶成熟产品的持续放量以及新产品的增加,KrF光刻胶依然保持着较快的增速达到52.56%。I线光刻胶方面,ICA光刻胶开始放量,增长率达到96.82%。截至2022年底公司共有 22家12寸客户,20家8寸客户 ,8/12寸客户的营收贡献率是公司半导体光刻胶业务营收贡献的主力。

2022年 北旭电子全年实现销售收入2.42亿元,国内市占率约为19% ;2023年上半年,北旭电子实现销售收入1.32亿元,同比增长-3.5%;面板光刻胶产品销量同比增长9.6%,国内市占率约为21.5%,位列国内本土第一大供应商。

电子类树脂: 面板光刻胶树脂方面,完成 液晶面板TFT-LCD array正胶的酚醛树脂、LED光刻胶酚醛树脂量产 ,以及下游光刻胶配方性能评价、并通过终端客户认可,相关酚醛树脂已经批量稳定生产。半导体光刻胶树脂方面,多个G/I线酚醛树脂及部分KrF光刻胶树脂已经开发完成,目前在芯片厂商做认证。

产能情况: 百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线、G/I线正胶生产线(500吨/年)和正胶配套试剂生产线(1000 吨/年)、百吨级248nm光刻胶 。

拥有 6000吨平板用光刻胶生产能力 ,是国内首家TFT-LCDArray光刻胶生产商,国内最大的液晶正性光刻胶本土供应商。同时年产1.1万吨半导体(年产300/400 吨ArF及KrF光刻胶量产产线)、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目,已进入项目收尾验收阶段,2023年二季度能完成全部建设,随后进入试生产阶段。

研发情况: 北京科华拥有 两个mini FAB ,有分辨率达到 0.11um的ASML PAS5500/850扫描式曝光机、Nikon步进式曝光机、TEL ACT8涂胶显影一体机和Hitachi S9220 CD SEM 等主流设备;拥有 多名光刻胶专家 ,具备很强的光刻胶原材料合成、配方及相关基础评价能力;承担了多项国家、北京市级光刻胶 重点研发及产业化项目 ;有完备的支持产品研发和出厂检验的分析和应用测试平台。

(1)半导体光刻胶: 2023年上半年,公司继续加大在半导体光刻胶方面的研发投入,新增研发立项48项,包括 14个KrF光刻胶项目,26个I线光刻胶项目 ,8个新材料项目。新产品销售收入占比达到半导体光刻胶业务收入总额的41.36%。在ArF光刻胶产品方面,公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力

(2)显示面板光刻胶: 公司在显示面板光刻胶方面不断增加研发投入,借助强大的研发创新能力,进行了多项产品的开发并逐步推向市场,2023年上半年,公司的一款4-Mask 高感度光刻胶产品不断扩展新客户和扩大量产销售,满足Array工艺所有Layer适用,突破了原有产品不能适用Halftone的瓶颈,目前该新品出货持续增加中,有效的解决了目前北旭胶的技术短板,提高了客户端设备生产柔性,对客户产能提升有积极作用。

另外,针对AMOLED面板客户,公司开发的高性能的高分辨率光刻胶:分辨率达到line1.5μm、hole2.0μm,目前已在客户完成阶段性批量验证,验证各项性能不仅可完全匹配现有竞争社产品,同时还能有效规避现有竞争社产品部分良率问题,有望陆续量产。

同时,有机膜产品、高耐热光刻胶、低温光刻胶也在研发和客户测试中,预计陆续量产销售。通过一系列科研技术项目的研发,有效增强了公司的技术储备,确保了公司在国内光刻胶行业的技术领先地位。随着新产品在客户端优势的逐步体现,公司会依托新产品进一步拓展市场,快速提升市占率。

(3)光刻胶用树脂: 公司具有光刻胶酚醛树脂研发、中试、量产、配方评价等一整套开发和量产体系,在已有多年工作基础上继续加大产品开发力度,23年上半年液晶面板 Array half-tone光刻胶酚醛树脂量产成功 ,通过光刻胶性能评价和终端客户认可; 高分辨率光刻胶酚醛树脂 进入量产产品已经在液晶面板产线测试; OLED光刻胶酚醛树脂 进入开发阶段; 多个G/I线酚醛树脂 处于中试/大试阶段; 先进I线光刻胶酚醛树脂、lift off负胶酚醛树脂 研发取得阶段性进展。

KrF光刻胶用PHS树脂 是集团研发重点方向之一,已经完成多个PHS在放大装置上运行。其中通用型KrF光刻胶主体树脂通过配方验证,相应的通用型KrF光刻胶正在Fab厂验证阶段,取得良好验证结果。开发和放大高分辨型KrF光刻胶主体树脂,相应的高分辨型KrF光刻胶正在下游Fab厂小批量验证。新采购的树脂生产装置设备已经到位,正在安装调试中,预计在今年第三季度进行试生产。

为了支持公司在电子化学品业务方面发展及新光刻胶品种开发,已建立 丙烯酸树脂开发团队 。目前公司研发涵盖 酚醛树脂、PHS树脂、丙烯酸树脂 三大类光刻胶树脂研发项目方向,从根本上解决光刻胶上游产业链供应问题。

上海彤程电子金山工厂已部分建成11000吨/年的光刻胶生产线及20000吨/年的EBR线,并于报告期末进入试生产准备阶段,产品涵盖半导体光刻胶、面板正胶、面板彩胶、EBR等高端光刻胶及其配套产品。同时,公司建立显示光刻胶研发团队,以成熟的树脂设计制造能力为依托,自主开发低温彩色光刻胶、PSPI、黑色PSPI、有机绝缘膜等新型面板材料,产品面向LCD、OLED、Mini LED 等各类显示技术。

合作伙伴: 中芯国际、上海华力微电子、长江存储、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、中芯京城、格科半导体、重庆万国等;京东方、惠科、咸阳彩虹等

投资情况: 北京科华 (控股70.5319%)、 北旭电子 (控股81.14%)

彤程观点: (1)2022年全球光刻胶市场规模达26.4亿美元,较上年增长6.82%。其中中国大陆市场依旧保持着全球最快的增速,达到5.93亿美元,较上年增长20.47%。

(2)随着中国大陆半导体产业发展,制造工艺技术节点也在不断缩小,多家新的晶圆制造工厂相继建成投产, KrF和ArF等先进光刻胶市场需求量将继续增大 。

(3)从中国大陆光刻胶产品市场变化来看,随着中国半导体产业的发展和制造工艺技术节点的不断缩小, G/I线光刻胶增速放缓,KrF和ArF光刻胶市场需求量和增速加快 。

(4)电子材料除了要按照自身规律发展以外,为应对国外技术出口管制风险,多家中国半导体企业也增加了材料国产化率要求,增加国产半导体光刻胶进入量产产线进行测试验证的机会。

(5)薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)是液晶显示器中最重要的一种,其产值和影响力在液晶显示器家族中有着举足轻重的地位。而中国是全球最大的TFT-LCD 生产国。作为重要的关键原材料,随着中国在全球显示行业发展中引领作用,我国的显示用光刻胶市场必将持续增长。

(6)目前, 我国光刻胶产业链雏形初现,从上游原材料、中游成品制造到下游应用均在逐步完善 ,且随着下游需求的逐渐扩大,光刻胶市场规模将显著增长。

3、晶瑞电材

其子公司瑞红苏州成立于1993年,规模生产光刻胶30年,是国内光刻胶行业的领军企业之一,是光刻胶国产化的重要力量。

涉及光刻胶产品: 半导体光刻胶、显示面板光刻胶等,其中半导体光刻胶包括紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶等,显示面板光刻胶包括触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等,拥有数上百个型号产品。

(1)正性光刻胶

(2)负性光刻胶

产业化进展: i线光刻胶产品规模化向中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成等国内知名半导体企业供货;KrF 高端光刻胶部分品种已量产;ArF 高端光刻胶研发工作已启动。建成了具有国际水平的高端光刻胶生产线和测试实验平台,同时拥有紫外宽谱、g 线(436nm)、 i 线(365nm)、 KrF(248nm)、 ArF(193nm)全系列光刻机测试实验平台。

研发情况: 2020年下半年购买了ASML1900 Gi型光刻机及配套设备,于2021 年下半年购入了尼康KrF S207光刻机及配套设备, 已建成ArF、 KrF光刻实验室(拥有由 5 台光刻机) ;承担了 国家「85」攻关、「863」重大专项、科技部创新基金 等科技项目、承担并完成了 国家02 专项「i 线光刻胶产品开发及产业化」 项目。

在研项目包括: 适用于28nm工艺节点浸润光刻的ArF光刻胶研发,基于实验室合成树脂及产酸剂已配置了ArF光刻胶样本并进行了测试,可以实现80nm以下分辨能力;适用于250nm到130nm工艺节点KrF光刻胶研发,已建立多个可选配方,优化后的实用分辨率可以达到0.15um以下;适用于ArF光刻胶生产的成膜树脂合成工艺研发,已合成多款树脂,并配合产酸剂配置了样品,测试可以实现80nm以下分辨能力;实用分辨率0.3um I line正性光刻胶研发,配方已经定型,实验室性能测试已经完成,已开始向市场推出;单次涂布大于50um的超厚膜光刻胶研发;新型高深宽比KrF光刻胶研发。

客户: 中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成、三安光电、扬杰电子 等国内知名半导体企业。

营收: 2022年,公司 光刻胶实现营业收入1.4亿元 (产量928吨,销量915吨),较上年同期下降1.94%。2023年上半年公司光刻胶产品实现 营业收入6,942.09万元 (毛利率52.72%),同比下降 8.73%,

晶瑞电材观点: (1)2021 年中国大陆集成电路光刻胶市场达41.1亿元,其中 g/i线光刻胶市场规模约8.79亿元,ArF/KrF市场规模达32.31亿元 。

(2) 2021年g/i线光刻胶国产化率约20%,KrF光刻胶国产化率不足2%,ArF/ ArFi光刻胶国产化率不足1% 。

4、南大光电

控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力,能够实现从 光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化 。

涉及光刻胶产品: ArF 光刻胶(干式及浸没式)

产业化情况: 目前研发的产品已在下游客户 存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点上通过认证 ,多款产品正在主要客户处认证,持续推动光刻胶及配套材料产品的研发和产业化。

产能情况: 在宁波市北仑区完成了第一条光刻胶生产线建设,产能达到10吨/年的规模,第二条光刻胶生产线于2020年完成建设,总产能达到25吨/年。

研发情况: (1)承接国家 「02-专项」高分辨率光刻胶产品关键技术 的研究项目,并通过国家「02-专项」验收;(2)承担 193nm浸没式光刻胶 产品开发和产业化项目;(3)购买 ASML 193nm浸没式光刻机。

南大光电观点: (1) 2020年ArF干式和浸没式光刻胶市场规模共计9亿美元 占据了48%的市场份额,KrF和g线/i线光刻胶分别占据34%和16%的市场份额。

(2)预计至2025年ArF干式及浸没式光刻胶仍然能占据45%的市场份额,规模预计到 2025达到10.72亿美元 ,2020-2025 复合增长率为3.5%。

(3)由于ArF浸没式光刻胶主要用于先进制程中的多重曝光过程,因此 其需求量为普通光刻胶的24倍 。

(4)根据TECHCET数据,2020年全球ArF浸没式光刻胶市场规模为7.1亿美元, 2021年全球ArF浸没式光刻胶市场规模为7.59亿美元 ,同比增长6.3%, 2025年有望达8.84亿美元 ,复合增长率达4.4%; ArF干式光刻胶2020年全球市场规模1.9亿美元 ,未来预计在此上下小幅波动。

5、鼎龙股份

2023年12月,鼎龙股份发布建设年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目。

目前,公司已开发出13款高端晶圆光刻胶产品,包括6款浸没式ArF光刻胶和7款KrF光刻胶产品,并有5款光刻胶产品已在客户端进行送样,其中包括1款能够达到ArF极限分辨率37.5nm的光刻胶产品和1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S和130nm Hole的光刻胶。

同时,公司提前储备多台光刻胶关键量产设备,其中包含多台浸没式ArF光刻胶不可替代的量产设备。

6、万华化学

电子材料有限公司作为万华化学集团全资子公司,万华化学集团电子材料有限公司依托集团公司整体产业链优势,在IC半导体领域深耕研发,全力攻关 抛光材料、先进封装材料、光刻胶 三大核心材料,致力于成为国际一流的电子材料供应商。

以客户需求为导向,电子材料有限公司依托自主研发/专利布局、完善的生产管控、完整的供应链体系三大优势特点,打造适用于IC半导体集成电路以及高端显示领域的多种电子材料产品解决方案。

7、容大感光

成立于1996年,是一家专业生产高端感光电子化学材料的国家级高新技术企业,其中在湿膜光刻胶领域,国内企业的产品市场占有率较高,约占90%以上的份额,公司约占国内市场40%的份额;在阻焊油墨光刻胶领域,日本企业太阳油墨占据龙头地位,市场占有率相对较高,约占国内市场50%的份额,公司约占国内市场15%左右的份额。

涉及光刻胶产品: PCB 光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶及配套化学品,其中半导体光刻胶以g线、i线正性/负性光刻胶,i线光刻胶可以满足0.35μm及以上线宽的光刻需求。

集成电路用光刻胶系列主要包括:RD-4000、RD-6000等系列

平板显示用光刻胶系列主要包括:RD-PFR/PFS、RD-PTL500、RD-PTH800等系列,用于TN/STN-LCD的ITO电极制作、TP的ITO电极、Mo/Al/Mo Sensor制作、TFT-LCD/OLED的TFT背板制作等

研发情况: 采用「内生式培养和外延式引进」双轮驱动模式,无ArF研发,未见KrF光刻胶研发

客户情况: 显示用光刻胶及半导体用光刻胶主要客户有TCL华星、莱宝高科、三安光电、扬杰科技、华微电子等企业

财务情况: 2022年营收3.67亿元,其中PCB光刻胶为3.36亿元,毛利率为34.56%。2023年前三季度累计实现营业收入57,804.68万元,其中,显示用光刻胶及半导体用光刻胶销售额占公司总销售额的比例较小。

8、飞凯新材

公司是一家研究、生产及销售高科技制造中使用材料和特种化学品的专业企业。自2002年成立以来,公司专注于材料行业的创新与突破,始终致力于为高科技制造提供优质材料,并努力实现新材料的自主可控。其中, i-line光刻胶和248nm光刻胶抗反射层材料 已实现部分客户量产。

9、江苏艾森半导体

艾森股份具有十多年高端电子化学品研发、制造和销售的高新技术企业。公司为晶圆制造、半导体封装、显示面板等应用领域提供可持续发展的高端电子化学品。产品包括电镀液、光刻胶以及相关配套试剂,其中光刻胶产品有 I/g-线的高厚度正性紫外光刻胶、紫外负性高厚度光刻胶、I-line光刻胶、以及Array制程用光刻胶 。

11、雅克科技

主要致力于电子半导体材料,深冷复合材料以及塑料助剂材料研发和生产。公司自主研发的OLED用低温RGB光刻胶、CMOS传感器用RGB光刻胶、先进封装RDL层用i-Line光刻胶等产品正按计划在客户端测试,客户涵盖包括京东方、华星光电、惠科等国内主要面板制造商。

12、万润股份: 光刻胶单体 业务正处于发展阶段

13、久日新材: 光引发剂、单体 、齐聚物、紫外吸收剂、医药化工中间体等精细化学品。旗下全资子公司徐州大晶新材料主要为 KrF光刻胶树脂和单体

14、强力新材: 光刻胶光引发剂

15、瑞联新材: 主营为单体液晶、OLED材料、创新药中间体,其中 光刻胶单体已供应给某韩国厂商

16、同益股份: 光刻胶基材 已进入国内光刻胶生产厂商及面板厂商持续测试中,目前有少量销售

17、扬帆新材: 部分 光引发剂 产品下游可应用于光刻胶

18、百川股份: PMA溶剂

19、怡达股份: 溶剂

20、江化微: 溶剂

二、非上市公司

21、徐州博康

成立于2010年3月,研发中心位于上海松江临港科技园,中试基地位于上海金山,在江苏邳州、浙江东阳有两个生产基地。公司从原材料向上突破,发展成为国内唯一一家实现 「单体-树脂、光酸-光刻胶」全产业链覆盖的光刻胶供应商 ,并在保障国产光刻胶材料产业链安全、自主、可控方面取得实质性突破。

目前,徐州博康已成功开 发ArF/KrF单体及光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶系列产品近百款,客户全面覆盖国内70余家芯片制造商 。其中,ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程,可扩展至14nm。基于完整产业链独特视角及产业化优势,徐州博康可根据客户需求定制研发,亦可围绕客户就近建设配胶中心,保持光刻材料供应的稳定、快速、可靠。

光刻胶产品:(1)半导体光刻胶: ArF-immersion(topcoat less)产品和ArF-dry产品 ,树脂结构为甲基丙烯酸酯/丙烯酸酯系列体系,伴有金刚烷等功能单元; KrF胶,PHS树脂体系,包括高活化能正胶、低活化能正胶以及负性胶等产品;I-Line光刻胶,PHS树脂体系的化学放大胶,包括正胶和负胶两大类产品,厚度范围覆盖0.3~20um;电子束光刻胶,PMMA、PHS、 P(MCA/MST)、 HSQ等不同体系的产品,包括正性和负性两大类;封装光刻胶 ,甲基丙烯酸酯共聚树脂体系,系列胶样应用厚度范围覆盖5-120um负性封装光刻胶。

(2)光刻胶树脂单体: KrF光刻胶树脂单体(苯乙烯系列);ArF光刻胶树脂单体(丙烯酸酯系列) 。

产业化进展: 2022年以来在光刻胶相关的技术与工艺环节突破不断,也得到了下游客户的认可,有多款高端光刻胶产品分别获得了国内12寸晶圆厂的相关订单,包括 ArF-immersion 产品及 ArF-dry, KrF, I-line 等。其中, ArF-immersion 产品已经适用于 28-45nm 制程。

(1)ArF光刻胶有 26 款产品,其中 ArF-immersion15 款, ArF-dry 11 款,可应用于 14-90nm 制程节点;有 9 款 ArF-immersion 及 ArF-dry 光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产 ,品种类涵盖 55nm、 40nm、 28nm 及以下的 LOGIC 关键层工艺 以及3D NAND,DRAM 等应用领域。2022 年以来 形成销售的 Arf 光刻胶有 5款 。

(2)KrF光刻胶有 30 款产品 ,其中,高分辨的 KrF 光刻胶,最小分辨率可达120nm CD,产品可应用于14nm-180nm制程中;KrF 中厚胶,主要为 L/S,针对 8-12寸抗刻蚀层;KrF厚胶,主要针对高深宽比及高台阶覆盖的应用;KrF 负胶,主要针对 IC 端和器件类特殊工艺应用; 有 20 余款 KrF 光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产 ,产品种类涵盖 55nm、 40nm、28nm 及以下的关键层工艺以及存储器、分立器件、传感器等应用领域。2022年以来形成 销售的 KrF 光刻胶有 15 款 。

(3)I 线光刻胶有 19 款产品 ,主要为化学放大型光刻胶,相对于传统光刻胶,化学放大型光刻胶具有更高的分辨率、对比度和深宽比。 有 10 多款 I 线光刻胶正在客户端进行产品验证导入量产 ,产品种类涵盖高能注入、抗刻蚀等关键层工艺以及PAD、 lift-off 等应用领域。2022 年以来形成销售的 I 线光刻胶有14 款。

(4)电子束光刻胶在销售的有3大种类,包括 PMMA 体系、 PHS、HSQ 等,现已为数十家企业和高校提供标准化、定制化的电子束光刻胶产品。

作为国内少有能打通光刻胶上游材料的全产业链公司,徐州博康的聚合与提纯工艺也是其核心竞争力之一。2022 年以来,旗下的光刻材料体系不断扩充,产品性能不断优化:

(1) 光刻胶单体已经研发近70款 ,2022年以来新开发 20 款单体,其中包含13 款 ArF 光刻胶单体,2 款 KrF 光刻胶单体。

(2) 光刻胶树脂已经研发 50 多款 , 2022 年以来新开发 18 款树脂,包括 7 款ArF 树脂,6 款高端 KrF 树脂。

(3) 光敏剂已经研发超过 150 款 , 2022 年以来新开发 50 款光敏剂,其中 12款针对 ArF 光刻胶开发,10款针对高端 KrF 光刻胶开发。

财务情况: 22年营收25807.8万元,亏损12716.54万元;23年上半年营收8563.8万元,亏损4,337.26万元

目前估值: 上一轮投后估值70亿

融资情况:

2023-04-19,战略投资,6亿元,中平资本、清枫资本、云晖资本、国发创投、赛睿基金、国开科创、汇智集团、青岛金玉浑璞

2022-09-22,战略投资,金额未知,青岛金玉浑璞、新鼎资本、瑞芯投资

2022-05-17,战略投资,金额未知,新鼎资本、盛世投资、海南泊灏企业管理合伙企业(有限合伙)

2021-08-11,战略投资,金额未知,哈勃投资

2021-01-12,战略投资,金额未知,凯石资本

2021-01-04,战略投资,3000万元,华懋科技

2020-04-13,战略投资,金额未知,金浦投资、博达股权

2016-08-05,战略投资,金额未知,雏菊机构、星香云、东吴创投

22、厦门恒坤新材料

成立于1996年,公司已发展成为一家致力于半导体先进材料研发、生产和销售的集成电路企业,目前公司已拥有超高纯前驱体、高端光刻胶2个生产基地,并设有多个技术服务中心。

主要产品: 光刻胶、前驱体、配方化学药品、特殊气体等。具体型号不详

产业化进展: 已陆续取得国内外多家12英寸芯片制造企业的材料供应商资格,并实现批量供货,是 目前国内给12寸晶圆厂供货量最大的光刻胶厂商 。

合作伙伴: 英特尔、长江存储、中芯国际、台积电

融资情况:

2023-01-04,Pre-IPO,金额未知,虢盛资本、中化资本、中电科、建信股权

2022-07-28,战略投资,金额未知,厦门钨业

2020-04-30,新三板定增,1.6689亿元,方正和生、前海母基金、深创投

2019-12-19,新三板定增,1.7亿元,前海母基金、深创投、方正和生

2017-06-28,股权转让,金额未知,勾陈资本

2015-10-21,新三板定增,1034万元,厦门神剑投资

23、珠海基石

公司正式成立于2022年6月30日,隶属于国资委重大产业投资。公司拥有世界领先的研发团队,60%以上研发人员具有博士学历;拥有世界一流高纯化学品制造产线,为客户提供高端、高品质、高安全的电子化学材料,产品广泛应用于国内顶级制造企业和研究测试机构。

产品情况:

融资情况:

24、阜阳欣奕华

成立于2013年5月,是一家专业从事显示光刻胶、半导体光刻胶、特种光刻胶、OLED材料和前沿材料研发、生产、销售与服务的高新技术企业。

涉及光刻胶产品: KrF光刻胶、ArF光刻胶、先进封装光刻胶 ;TFT-LCD用黑色光刻胶、TFT-LCD用彩色光刻胶;OLED显示用低温光刻胶、OLED显示用PDL、量子点新型显示用光刻胶、显示和传感器用热回流胶

产业化进展:

(1)显示光刻胶: 出货量稳居中国大陆企业前列,彩色光刻胶年出货量超过千吨;

(2)半导体光刻胶: 研发团队由多名海外专家领军,专注晶圆制造用 光刻胶配方、工艺、树脂结构设计等核心技术及产品研发 。产品包括I-line 、KrF、ArF等高端半导体光刻胶,具有高分辨率、高感光度、耐刻蚀、DOF&EL宽工艺窗口等优异性能。

(3)特种光刻胶: 低温光刻胶、量子点光刻胶、PDL、热回流胶等特种光刻胶均实现技术突破与量产。

融资情况:

2023-11-02,D轮,5亿元,中国建投、卓瑜资本、盛景嘉成、龙鼎投资、德润基金

2023-11-02,战略投资,金额未知,中金资本、哈勃投资、国开金融、火眼资本、辅仁投资、上哲至成投资、湖北科投、华安嘉业

2023-02-06,战略投资,金额未知,京东方集团

2022-08-11,C轮,5亿元,中金资本、国开金融、中建材新材料基金、湖北科投、齐芯投资、华安嘉业、安元基金、颍科

2018-07-30,B轮,金额未知,浙商创投

2014-08-20,A轮,金额未知,海林投资

25、上海艾深斯

公司成立于2019年9月,创始团队包括欧美知名大学化学及物理学博士,团队成员有累计近30年的光刻胶及其高纯化原材料的研发生产经验。已在上海松江建立了先进的研发实验室与中试产线,开发出半导体芯片制造企业急需的 ArF和KrF光刻胶 产品,并获得国内龙头芯片制造企业的持续订单。

融资情况:

26、苏州润邦半导体

公司成立于2019年06月25日,拥有三大业务板块,分别为电子/显示结构胶,产品包括光学级别水胶以及液晶框封胶;胶带类胶水;半导体胶水,包括光刻胶原材料,配套材料,清洗液等关键材料。2023年6月30日,润邦半导体材料科技举行二期半导体光刻胶项目奠基仪式,建成后将具备 i-line、KrF、ArF光刻胶 及包括BARC、TARC、FIRM等辅助材料、部分上游单体的研发和生产能力。

融资情况:

27、潍坊星泰克

创建于2010年,公司专注于光刻胶的研发、生产和销售光刻胶。主要产品包括KrF正性光刻胶、蓝宝石衬底(PSS)专用光刻胶、剥离(lift-off)光刻胶、柔性光刻胶、纳米压印光刻胶、SU-8 厚胶、BM胶等各类高端光刻胶及配套试剂,广泛应用于LED、LCD、IC、MEMS、封装等领域。

融资情况:

2021-04-21,战略投资,金额未知,中信证券投资

2016-08-10,战略投资,金额未知,山东高创建设投资集团有限公司

28、国科天骥

公司成立于2019年,其研发团队开发了一系列以 单分子树脂(分子玻璃)为主体材料的光刻胶 ,并可用于极紫外光刻,得到分辨率小于20纳米的光刻图案,光刻线条的关键指标线边缘粗糙度可以稳定地达到 3纳米以下,第一期国家专项任务已顺利通过国家验收。此外,具有自主知识产权的 主体材料经过配方设计,也可用于ArF(193纳米)光刻和电子束光刻 等多种场景。电子束光刻灵敏度显著高于市售产品,可获得小于30纳米分辨率的光刻线条。

目前,国科天骥已打通光刻胶树脂的规模生产工艺路线。产品通过核磁、质谱鉴定及光刻测试。一期两条生产线的光刻胶年产能达20吨,二期4条生产线光刻胶产能达120吨,将于今年年底前建设完成。

融资情况:

29、广州微纳光刻材料

公司创立于2020年,是广东省内专业开发 90nm-28nm制程高端半导体芯片制造用193nm光刻胶及相关材料 的高科技公司,为 中芯国际、广州粤芯公司 等客户定制光刻胶。公司总部设立于广州南沙区,并在珠海、上海设有研发中心和实验室。

公司的ArF国产光刻胶研发项目始于2016年,创始人首先在珠海横琴创立的光刻胶树脂公司自主研发,配方在上海、北京等地的客户生产线的ASML光刻机上(90nm、55nm、28nm)进行了大量的评估,其ArF光刻胶的关键技术指标,如DOF等,已超过现有头部梯队商用产品,在国内处于领先地位。

技术团队 以原英特尔出身的博士为核心 ,进行光刻胶材料研发;有和博士合作多年的 日本资深光刻胶工艺技术专家 ,负责生产工艺和质量管控; 两位原中芯国际光刻部门的光刻专家 负责曝光评估和市场策划;核心成员在光刻胶材料开发和应用方面拥有丰富经验;公司已选定浙江嘉兴与广东新丰工厂两座符合安全生产标准的工厂进行代工生产,严格按照SPC进行生产和质量管理。

融资情况:

30、江苏博砚电子

成立于2014年7月,是一家集研发,生产 TFT-LCD彩色滤光片用光刻胶 的专业厂家。公司主营产品为光刻胶(Photo Resist),光刻胶广泛适用于TFT-LCD液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等过程。

目前,公司现有员工100人,研发人员占公司总人数40%,其中硕士及以上学历23人, 日韩专家4人,台湾专家2人

目前,博砚电子公司已经完成了光刻胶(BM)的开发和中试工作,都已经实现了稳定生产,实现了正常百公斤级供货能力。

融资情况:

2021-06-11,战略投资,金额未知,国联投资

2020-12-31,B轮,金额未知,锦泰金泓、金雨茂物、芯动能投资、信保佳基金、斐君资本、上海纳米创投、天巽投资、毅达资本、协立投资、中信证券、纳米创投、金茂资本、锦泰金泓

2019-01-25,A轮,金额未知,金茂资本、金雨茂物、羽昱创投、信保佳基金、上海新阳

2016-06-20,天使轮,金额未知,辰韬资本

31、北京鼎材科技

鼎材科技是一家从事新型电子材料研发、生产、销售和技术服务的高科技企业,致力于光电领域新材料产品技术开发和创新。在主营产品OLED有机发光材料及 彩色光刻胶 材料方面处于业内领先地位。

融资情况:

32、理硕科技

成立于2019年9月,是一家从事平板显示器和半导体芯片用光刻胶及光刻工艺材料研发和生产的高科技企业。

融资情况:

33、迪道微电子

公司创立于2020年,研发和运营中心坐落于深圳市光明区,产品聚焦在半导体和平板显示光刻制程领域,主要有半导体清洗剂、平板显示光刻胶以及半导体光刻胶(i、g、KrF、ArF)。

融资情况:

34、深圳道尔顿

成立于2011年,是专业从事LCD和CTP专用电子材料研发、生产和销售的国家级高新技术企业,目前量产的液晶取向剂(PI)/绝缘液(TOP)/光刻胶(PR)等产品。

融资情况:

35、湖南初源新材料

公司长期专注于感光材料及专用电子化学品研发、生产、销售、技术服务,在湖南、江西、广东、江苏等地设有研发实验室、生产基地、销售分公司及技术服务中心。公司主导产品为干膜光刻胶,为多家全球TOP10的PCB企业与国内主要PCB上市企业提供产品与服务。

2023年11月07日,公司向湖南证监局申请辅导备案。

融资情况:

36、珦盛新材料

珦盛新材料(珠海)有限公司 整合了一批来自日本、北美和国内在光刻材料领域拥有20多年 的研发、生产、市场和销售具有丰富经验的技术和运营专家,全面致力于光刻材料(光刻胶)领域,针对印刷电路板、显示面板、半导体芯片光刻材料进行创新型研发和批量生产。公司拥有国际领先的超级纳米复合材料技术,应用到一系列光刻胶产品中,这项技术已经大大地提高了公司推出的PCB板和FPC的干膜光刻胶性价比和竞争力, 同时帮助公司在显示面板领域开发出各种高性能的光刻材料, 继而推动开辟用于半导体DUV和EUV光刻的新型纳米材料材料的开发,解决国家在光刻领域急需的「卡脖子」技术的难题。

融资情况:

37、威迈芯材

成立于2021年,公司专注于研发生产 半导体高端ArF/KrF光刻胶主材料 ,包括光致产酸剂PAG、光引发剂PI、BARC层树脂Resin、电子材料核心单体等,同时也提供每个最终产品的中间体。

目前,除了稳定供货给 韩国、日本和其他地区 领先的光刻胶公司和电子材料公司外,当前已有 数十余款半导体ArF/KrF PAG产品已经供货给中国多家半导体光刻胶龙头企业 。

融资信息:

38、微芯新材

成立于2018年07月18日,公司定位于从事半导体电子级产品研究、生产、销售。公司拥有对乙酰氧基苯乙烯(pACS)的自主知识产权,拥有多项 光刻胶单体和溶剂 的专利技术,广泛应用于半导体电子级产品领域。

微芯新材已成为国内为数不多可以批量化生产KrF光刻胶单体、并拥有树脂批量化产线的原材料生产企业,产品已获得国际大厂认证,并已实现商业化出货。据久日新材2023年上半年报告显示,微芯新材报告期内 实现营业收入2178.16万元,实现净利润266.83万元

融资情况:

39、河北凯诺中星

公司主要从事开发及生产各种类型的电子信息新材料、功能性精细化学品,包括大规模集成电路、芯片等制造的光刻胶树脂单体、光致产酸剂、添加剂及各类配套试剂,如显影液、漂洗液、清洗液、剥离液、刻蚀液等超净高纯电子化学品试剂,拥有多家国际巨头客户。

融资情况:

40青岛靖帆新材料: 感光材料、光刻胶用光敏剂、光刻胶用树脂及单体、光刻胶用染料、光刻胶用交联剂等

41、陕西致知博约光电: 电子级别和光学级别用胶黏剂、光刻胶原材料、聚酰亚胺材料、配套制程材料、清洗液

42、江苏至昕新材料: 特种硅油、硅树脂、硅烷、光刻胶抗反射涂层、高低K值介电材料、离子注入气体、热管理材料、压敏胶、离型剂、胶粘剂和硅凝胶等

43、芯越微电子材料(嘉兴): 光刻胶剥离液、显影液、清洗剂、蚀刻灰化后清洗液、CMP抛光液

44、万思得新材料科技(中山): millbase色浆、特种感光树脂、MB光阻、彩色光阻及光刻胶配套材料

三、光刻胶怎么投

光刻胶是光刻工艺中最核心的耗材,其性能决定着光刻质量。全球市场规模约为92亿美元,其中 KrF、ArF光刻胶 的市场占比最高。

行业特点:依赖稳定供给+长期经验

光刻胶的生产,在工艺技术、测试设备和下游认证等环节均存在较高壁垒:

① 研发需要配方和经验的长期积累,且难以通过现有产品反向解构出配方;

② 依赖原材料及设备的稳定供给,需要对应制程的光刻机配套,资本投入极大;

③ 稳定性对下游晶圆厂极为重要,从实验室产品到量产,每批次光刻胶产品性能都必须实现稳定一致;

④ 客户粘性极强,甚至会上下游合作开发新品,定制化程度高,产品替代验证的时间成本极高,验证周期长达12个月以上。

重点领域:高端光刻胶替代空间广阔

分辨率、对比度、敏感度等是光刻胶的核心技术参数。随着未来市场对芯片小型化需求的发展, 光刻胶将进一步朝着高分辨率、高对比度、高敏感度等方向发展

目前,高端光刻胶大量生产专利在海外,国内优秀龙头公司正积极布局,寻求突破。适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶,国内自给率约为10%;适用于8英寸硅片的KrF光刻胶,自给率不足5%;适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口,而EUV光刻胶仍处研发阶段。

赢家画像:具备三种能力更易跑出

在光刻胶领域,技术、设备和客户壁垒决定了,新进入者较难与现有企业竞争。认为,具备以下能力的厂商更容易在一级市场跑出:

① 穿透技术壁垒,如收并购国外公司产线、专利、配方及设备的企业;且掌握多种产品矩阵,能提供一揽子光刻胶产品的企业更受下游客户青睐;

② 掌握稳定可控的供应链,尤其是对关键原材料——树脂材料实现自主可控的公司,可实现反向出口,扩大营收空间;

③ 已与下游重点客户完成初步验证或合作研发的公司。