IT之家 9 月 3 日訊息，日經報道稱，英特爾將與日本產業技術綜合研究所（AIST）在日本建立芯片研發基地，新設施將在三到五年內建成，配備極紫外線光刻（EUV）裝置。
裝置制造商和材料公司將付費使用該設施進行原型設計和測試。據介紹，這將是日本第一個行業成員能夠共同使用極紫外光刻裝置的中心。
IT之家查詢獲悉，產業技術綜合研究所隸屬經濟產業省，是日本一家設法使用整合科學和工程知識來解決日本社會和經濟發展需要的研究機構，總部位於東京，2001 年成為獨立行政機構的一個新設計的法律機構。
英特爾計劃與日本 AIST 合作建立芯片研究中心
