金融界 2024 年 7 月 12 日訊息，天眼查智慧財產權資訊顯示，漢威科技集團股份有限公司申請一項名為「雷射多瓦斯微泄漏檢測方法、系統及介質」，公開號 CN202410410031.8，申請日期為 2024 年 4 月。
專利摘要顯示，本發明提供了一種雷射多瓦斯微泄漏檢測方法、系統及介質，所述方法包括：利用溫度即時值 T 和預先配置的環境溫度關系模型，確定雷射瓦斯傳感器中雷射器的目標工作溫度 T 實 1，對雷射器進行動態調整；確定第一目標瓦斯對應的響應值Ⅰ及吸收峰即時位置 P 實 1，判斷響應值Ⅰ是否大於第一閾值 V1；若是，則判斷吸收峰即時位置 P 實 1 是否處於第一目標瓦斯的預設吸收峰區間內，若是則利用第一目標瓦斯的標定曲線，獲得第一目標瓦斯的濃度；在第二目標瓦斯對應的響應值Ⅱ大於第二閾值 V2 時，利用第二目標瓦斯的標定曲線，獲得第二目標瓦斯的濃度；若否，則動態調整雷射器，再確定第二目標瓦斯對應的響應值Ⅱ及吸收峰即時位置 P 實 2，判斷響應值Ⅱ是否大於第二閾值 V2，若大於第二閾值 V2，則在吸收峰即時位置 P 實 2 處於預設吸收峰區間時，利用第二目標瓦斯的標定曲線，獲得第二目標瓦斯的濃度。
