快科技2月12日訊息，ASML對外展示了最新EUV光刻機內部畫面，或許在他們看來，就算把這些全部展現給大家看，也沒辦法來偷師他們的技術。
該系統已獲得英特爾公司的訂單，首台機器已於去年年底運抵其位於奧勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在 2025 年年底開始使用該系統進行生產。
High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7。更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實作更快的處理速度和更高的儲存容量，這對於人工智慧工作負載至關重要。
該公司上季度收到了創紀錄的頂級EUV光刻機訂單，顯示了包括英特爾、三星電子和台積電在內的大客戶對該技術的樂觀預期，由於種種因素限制，中國廠商是沒辦法被允許購買這些裝置的。
有網友甚至感慨，即便這些內部結構展示給國產廠商，可能真正阻礙下也沒辦法去逆向推演復刻。
