國內最先進的芯片制造技術達3nm，獲得國際廠商認可。
因為種種原因，中國很難購買到最好的光刻機，這對中國的芯片生產造成了很大的阻礙，而中國的芯片裝備，也不是什麽都不是，在一些芯片上，已經走在了國際前列。
前段時間中國半導體裝備產業傳來一個好的好訊息，中國已經在3 nm芯片器件上有了重大的進展，使中國的半導體制造技術走在了世界前列，並與世界接軌，那就是刻蝕機。
中國在刻蝕技術上和世界是一樣的，早在幾年前，中國就已經開始生產5 nm了，而上海中微的5 nm刻蝕機，更是被台積電選中，從這一點就可以看出，中國在刻蝕技術上，已經有了領先的技術。
刻蝕機同樣是一道非常關鍵的工序，它的作用只在光刻機之下，當光刻機在晶片上印刷好路線後，便會用刻蝕機刻蝕出路線，隨後才能完成後續工序，最後才能制作出像芯片這樣的產品，從這一點就可以看出刻蝕機有多麽重要了。
中國之所以能走上世界前列，是因為中國很早就做好了準備，張汝京在中國成立中芯，那時候很多國外的精英都回到了中國，而中微集團的創辦人尹誌驍，則是在2000年後回到國內創辦了中微科技。
得益於尹誌驍在美國英特爾等公司工作的經驗，以及他從國外回來的一群芯片專家，中微科技憑借著自己的實力，在過去的二十多年裏，從無到有地制造出了世界上最好的蝕刻裝置。
而中國的巨大市場和新興的半導體行業，也給了中微半導體成長的機會，目前中國最好的制程技術也不過是7 nm制程，所以中微科技的蝕刻技術依然占據著中國的市場份額，同時也是世界上最大的晶片供應商之一，中微公司也因此和中國的半導體行業一起，成長為世界上最大的芯片供應商。
中國在刻蝕技術上的進步，足以說明中國完全可以從無到有地建立起一條完整的半導體生產線，而且中國在上世紀90年代就已經擁有了光刻機的技術，但因為國內的需求，中國並沒有把握住這個機會。
這些年來，美國一直在打壓中國的高端芯片，這對中國的半導體工業造成了很大的阻礙，但現在中國已經擁有了世界上最好的技術，這無疑會激勵中國的半導體工業更加團結，相信用不了多久，就會有一天，國產的 EUV光刻機會被研制出來。
中國已經具備了足夠的光刻能力，在一年前就已經批次生產了浸入式光刻機，也正因為如此， ASML公司終於得到了向中國提供2000 I級浸入式光刻機的授權，如果繼續這樣做的話，未來中國的半導體行業將會擁有完整的生產體系。
華裔在中國扮演著舉足輕重的角色， NVIDIA, AMD，博通等世界著名的半導體公司均出自華裔之手，可見華裔在半導體科技上的才華，而尹誌驍等華裔科學家在中國所獲得的傑出成績，也會激發更多華裔回國投資，中國的半導體產業也會因此而蓬勃發展，甚至有可能在未來，中國不再是一個獨立的國家，而是一個引領世界半導體產業發展的新潮流的國家。
