據悉，該系統已經獲得了英特爾公司的訂單，首台機器已於去年年底運抵其位於奧勒岡州的D1X工廠，預計英特爾將於2025年年底開始使用該系統進行生產。
High-NA EUV光刻機具備了非常先進的技術，能夠在半導體上蝕刻出僅8奈米寬的線條，相比上一代產品，線條寬度縮小了1/1.7。這意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而提高了處理速度和儲存容量，對於人工智慧工作負載至關重要。
該公司上季度收到了創紀錄的頂級EUV光刻機訂單，顯示了包括英特爾、三星電子和台積電在內的大客戶對該技術的樂觀預期。然而，由於種種因素限制，中國廠商是無法購買這些裝置的。
一些網友甚至感嘆，即使將這些內部結構展示給國產廠商，也難以逆向推演出技術細節。技術的發展日新月異，對於技術竊取的防範措施也日益嚴密。
總的來說，ASML的最新技術展示引發了業界的廣泛關註，顯示了科技行業在不斷創新進步的同時，對於技術保護的重視。對於中國廠商而言，如何在技術封鎖的情況下保持競爭力，值得深思和探討。
你對技術保護和競爭問題有何看法？
