EUV 光刻機的重要性不用再說，台積電憑借率先引進 EUV 和擁有更多 EUV ，一直在晶圓代工方面領先於三星。為此，三星想要實作反超，開始爭取獲得更多的 EUV 。
如今，芯片制程向 2nm 及更先進制程發展，光刻機巨頭 ASML 也推出了下一代 EUV 光刻機，並且還透露了更先進的 EUV 商用時間，不過外媒表示ASML徹底尷尬了！
近日，知名專家項立剛表獨特看法，他認為「台積電 7nm 以下制程必須使用 ASML 昂貴 EUV 光刻機」就是一個驚天騙局，台積電為了壟斷市場特意制造的一個壁壘。
更有意思的是，美方也被忽悠了，認為只要卡住 EUV ，就能卡住我們發展先進制程。
因此，美方一直以來緊盯光刻機限制，之前限制高端 EUV 向大陸出貨，去年又極力限制浸潤式 DUV 。然而，高端光刻機確實被限制了，但卻沒有擋住我們芯片發展。
去年華為自研麒麟芯片回歸就是有力證明，不少檢測一致認為達到 7nm 水平。這還不算，近日外媒【金融時報】報道大陸即將量產 5nm 芯片，恐怕也不是電洞來風。
由此，項立剛認為 7nm 、 5nm 、 3nm 等其實都是虛標的。項專家這麽講當然也有一定道理，因為進入 10nm 以後，所謂幾 nm 已經不是實際寬度，而是透過計算獲得。
所以連台積電專家林本堅也表示，現在 DUV 光刻機也可以實作 7nm ，甚至是 5nm 。
當然，不可否認的是制造技術確實是進步了，但進步程度並沒有所標的那麽大。台積電這樣操作，確實把英特爾給坑得不輕，如今英特爾也開始不按實際寬度標了。
關鍵是，台積電這樣做，曾經給 ASML 帶來了不少好處，讓 EUV 光刻機開啟市場。
如今， EUV 光刻機已經成為 ASML 營收的重要營收支撐，台積電也因此擁有 EUV 光刻機的優先購買權，獲得了最多的 EUV 光刻機。這讓三星想要多得，還需要靠搶。
在這種情況下， ASML 也更進一步，推出了面向 2nm 以下更尖端制程的下一代 EUV 光刻機，也就是 High NA EUV 。原來 EUV 分辨率真為 13.5nm ，這下提升到 8nm 。
不過，這一次台積電失去了優先購買權， ASML 目前已經把首台發往了美企英特爾。
一方面是因為英特爾是美企，還是 EUV 研發聯盟的發起者。另一方面也是台積電不再積極爭取了，因為下一代 EUV 價格更昂貴，關鍵是明白實際價值並沒有那麽高。
英特爾重新開機芯片代工後，就制定了「四年五代」的技術追趕計劃，想要在代工上跟台積電、三星展開競爭。為此，英特爾積極爭取到了 High NA EUV 的優先購買權。
這樣的話，英特爾就可以領先台積電一年實作 2nm 制程。但台積電似乎並不在意，就像之前三星領先半年實作 3nm 量產，後來台積電 3nm 制造技術還是領先於三星。
因此，即使英特爾率先獲得了先進 EUV ，也未必能夠真正實作對台積電的技術超越！
由此可見， High NA EUV 已經不像之前 EUV 那樣受到熱捧，或許就像開頭項立剛講的那樣，用現有的 EUV 光刻機也可以實作 2nm 制程，所以台積電才會那樣地淡定。
在這種情況下， ASML 又宣布了更先進的 Hyper-NA EUV 技術進展，就是 High NA EUV 的下一代，預計將在 2030 年左右開始商用，為未來更尖端的芯片制造提供助力。
之前， ASML 技術長曾提到過，認為成本過高， Hyper-NA EUV 經濟層面不可行。
因為 High NA EUV 使用者已經不多，如今僅剩下台積電、三星、英特爾， Hyper-NA EUV 光刻機成本繼續增長一倍，一台就超過 7.6 億美元，恐怕巨頭們也難以承受了！
對此，近日有外媒直接表示： ASML徹底尷尬了 ，不僅是 EUV 光刻機技術即將走到盡頭，未來恐怕還將面臨EUV賣不出去局面，所以其他光刻機技術才會陸續地面世！
