金融界2024年1月30日訊息，據國家智慧財產權局公告，三星電子株式會社申請一項名為「電漿處理裝置「，公開號CN117476497A，申請日期為2023年7月。
專利摘要顯示，公開了一種電漿處理裝置。所述電漿處理裝置包括：裝載釘選腔室，能夠在大氣壓力狀態與真空壓力狀態之間切換；以及基底處理裝置，被配置為：將基底傳送到裝載釘選腔室和從裝載釘選腔室傳送基底，並且在真空環境下在電漿腔室中對基底的表面執行電漿處理。基底處理裝置包括：基底載台，設定在電漿腔室內並且被配置為支撐基底；等離子瓦斯供應器，被配置為將等離子瓦斯供應到電漿腔室中；蒸汽供應器，被配置為將水蒸氣供應到電漿腔室中；以及電漿生成器，被配置為在電漿腔室中生成電漿。
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